新阳硅密(上海)半导体技术有限公司史蒂文·贺·汪获国家专利权
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龙图腾网获悉新阳硅密(上海)半导体技术有限公司申请的专利一种可控制溢流边缘波动的电镀槽及电镀装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116479509B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210050192.1，技术领域涉及：C25D17/02；该发明授权一种可控制溢流边缘波动的电镀槽及电镀装置是由史蒂文·贺·汪;林鹏鹏设计研发完成，并于2022-01-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种可控制溢流边缘波动的电镀槽及电镀装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种可控制溢流边缘波动的电镀槽及电镀装置，其中，可控制溢流边缘波动的电镀槽包括槽体和设置于槽体上的溢流装置，槽体内可盛放电镀液，溢流装置包括溢流环和若干个支撑柱，溢流环经支撑柱支撑于槽体的上表面，槽体上表面与溢流环之间形成溢流口。本发明提供的可控制溢流边缘波动的电镀槽及电镀装置，通过溢流装置的设置，当槽体的进液量小于或等于预设值时，槽体中溢流出的电镀液从溢流口流出，当槽体的进液量大于预设值时，从槽体中溢流出的电镀液则从溢流口以及溢流环上表面流出，由此消除了晶圆最外圈处的液体波动，保证了晶圆最外圈电镀的均匀性。
本发明授权一种可控制溢流边缘波动的电镀槽及电镀装置在权利要求书中公布了：1.一种可控制溢流边缘波动的电镀槽，其特征在于， 包括槽体和设置于槽体上的溢流装置，槽体内可盛放电镀液，溢流装置包括溢流环和若干个支撑柱，溢流环经支撑柱支撑于槽体的上表面，槽体上表面与溢流环之间形成溢流口； 所述溢流口具有一从内口处向外延伸的引流段，所述引流段的口径从内向外逐渐缩小。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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