昆明理工大学甘博敏获国家专利权
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龙图腾网获悉昆明理工大学申请的专利一种基于凸包高次幂拟合的医学分割图像凹缺陷填补方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116596791B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310576131.3，技术领域涉及：G06T5/77；该发明授权一种基于凸包高次幂拟合的医学分割图像凹缺陷填补方法是由甘博敏;刘孝保;许彪;胡志宏;苏帅林;魏东亮设计研发完成，并于2023-05-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于凸包高次幂拟合的医学分割图像凹缺陷填补方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于凸包高次幂拟合的医学分割图像凹缺陷填补方法，包括：S1：医学二值分割图像经过前处理，并获取器官边缘轮廓；S2：Graham扫描提取边缘轮廓凹缺陷信息；S3：构建关键点集合Defecti；S4：遍历集合Defecti并利用高次幂曲线依次拟合点集；S5：利用连通域像素面积的自适应阈值判断凹缺陷区域，并通过泛洪填充处理背景区域；S6：对填充图像与原始输入图像进行逻辑操作，得到最终填补图像。本发明实现了医学分割图像中器官边缘凹缺陷的光滑填补，具有较高的可拓展性以及填补光滑度。
本发明授权一种基于凸包高次幂拟合的医学分割图像凹缺陷填补方法在权利要求书中公布了：1.一种基于凸包高次幂拟合的医学分割图像凹缺陷填补方法，其特征在于，包括以下步骤： S1：获取医学二值分割图像经过前处理，然后提取单像素器官边缘轮廓； S2：Graham扫描提取边缘轮廓凹缺陷信息，凹缺陷信息包括轮廓上各处凹缺陷的起始点坐标Si、终止点坐标Ei、最远点坐标Fi以及凹缺陷最深距离DFar； S3：构建关键点集合Defecti，其中： S3.1：通过起始点与终止点在二维坐标系中计算中间点； S3.2：通过中间点与最远点，并根据比例系数λ，计算过渡点，其中0＜λ＜1； S3.3：在轮廓曲线上以前后n个像素点进行延伸，得到延伸后的关键点，其中n为正整数，表示在轮廓曲线上延伸的像素点数； S4：遍历关键点集合，利用幂次大于2的高次幂曲线依次拟合点集； S5：利用连通域像素面积的自适应阈值判断凹缺陷区域，并通过泛洪填充处理背景区域； S6：对填充图像与原始输入图像进行逻辑操作，得到光滑完整的填补图像。
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