DIC株式会社杨少伟获国家专利权
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龙图腾网获悉DIC株式会社申请的专利氧化锆颗粒及氧化锆颗粒的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117222599B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080107983.2，技术领域涉及：C01G25/02；该发明授权氧化锆颗粒及氧化锆颗粒的制造方法是由杨少伟;田渊穣;袁建军;刘丞;李萌;赵伟;郭健设计研发完成，并于2020-12-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本氧化锆颗粒及氧化锆颗粒的制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及含有钼并且各自具有多面体形状的氧化锆颗粒。钼优选不均匀地分布在氧化锆颗粒的表层中。本发明还涉及氧化锆颗粒的制造方法。该方法包括混合锆化合物和钼化合物以形成混合物并且烧制该混合物。
本发明授权氧化锆颗粒及氧化锆颗粒的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种氧化锆颗粒，其含有钼且各自具有多面体形状， 其中所述氧化锆颗粒的[11-1]面晶粒尺寸为90nm以上。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人DIC株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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