福建钰融科技有限公司史郭涛获国家专利权
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龙图腾网获悉福建钰融科技有限公司申请的专利用于三五族半导体化合物隔离层的蚀刻液及其制备和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117431068B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311382190.3，技术领域涉及：C09K13/04；该发明授权用于三五族半导体化合物隔离层的蚀刻液及其制备和应用是由史郭涛;林秋玉设计研发完成，并于2023-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于三五族半导体化合物隔离层的蚀刻液及其制备和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及湿电子化学品技术领域，更具体地涉及一种用于三五族半导体化合物隔离层的蚀刻液及其制备和应用。包括以下重量百分比的原料：无机酸5％‑15％、氧化剂5‑15％、蚀刻抑制剂0.05％‑0.3％、表面活性剂0.05％‑0.3％，余量为水。无机酸选自盐酸、硫酸、磷酸或氢溴酸，氧化剂选自双氧水、碘酸、硝酸或过硫酸铵。蚀刻抑制剂选自柠檬酸、钼酸铵、六甲基尿嘧啶或甲基‑苯丙三氮唑。表面活性剂选自醋酸、三乙二醇或聚乙二醇。本发明只需要一种蚀刻液即可，且在半导体化合物隔离区腐蚀的基础上，提高三五族半导体化合物隔离层腐蚀的蚀刻速率、蚀刻均匀性，减少药液残留、侧蚀损失，在商业半导体化合物领域具有非常良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。
本发明授权用于三五族半导体化合物隔离层的蚀刻液及其制备和应用在权利要求书中公布了：1.一种用于三五族半导体化合物隔离层的蚀刻液，其特征在于，以重量百分比计，包括： 盐酸5%-8%； 碘酸5%-8%； 蚀刻抑制剂0.05%-0.1%，所述蚀刻抑制剂选自柠檬酸、钼酸铵、六甲基尿嘧啶和甲基-苯丙三氮唑中的一种或一种以上； 表面活性剂0.1%，所述表面活性剂选自三乙二醇和或聚乙二醇；和 余量水。
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