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龙图腾网获悉清华大学深圳国际研究生院申请的专利一种结构光三维测量中黑色和阴影区域的假点修正方法和结构光三维测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118129644B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410190183.1，技术领域涉及：G01B11/25；该发明授权一种结构光三维测量中黑色和阴影区域的假点修正方法和结构光三维测量方法是由李星辉;李一鸣;李梓楠设计研发完成，并于2024-02-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种结构光三维测量中黑色和阴影区域的假点修正方法和结构光三维测量方法在说明书摘要公布了：一种结构光三维测量中黑色和阴影区域的假点修正方法和结构光三维测量方法，包括如下步骤：S1、获取被测物体解包裹相位求解所需要的所有相移图；S2、根据相移图获得被测物体的绝对相位图；S3、从步骤S1求解的相移图中取一个频率的相移图，通过循环相移作差法获得掩膜，掩膜将被测物体的阴影区域和黑色区域与正常光照区域分离；S4、将步骤S2获得的被测物体的绝对相位图和步骤S3获得的掩膜相乘，获得黑色区域和阴影区域得到修正的被测物体的绝对相位图。本发明在不需要任何后处理操作的情况下，得到没有杂散点和“假点”的3D点云，保证标定参数不受假点干扰，并有效提搞了测量精度，并且省去了杂散噪点后处理环节，有效提升了测量效率。

本发明授权一种结构光三维测量中黑色和阴影区域的假点修正方法和结构光三维测量方法在权利要求书中公布了：1.一种结构光三维测量中黑色和阴影区域的假点修正方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、获取被测物体解包裹相位求解所需要的所有相移图； S2、根据所述相移图获得被测物体的绝对相位图； S3、从步骤S1求解的相移图中取一个频率的相移图，通过循环相移作差法获得掩膜，所述掩膜将被测物体的阴影区域和黑色区域与正常光照区域分离；其中，所述通过循环相移作差法获得掩膜包括：先设置初始值为0的掩膜，然后在同个频率光栅下对不同初始相位的相位光栅进行内外循环顺序依次差分，每次差分的绝对值和掩膜进行逐像素比较，只保留光照强度较高的像素充当新的掩膜，经过循环差值比较和二值化处理，得到一个能够完全去除黑色区域和阴影区域的蒙版，即掩膜，最后，通过将掩膜与传统结构光三维测量方法求解出的绝对相位相乘，得到没有假点影响的绝对相位；其中，选择多频相移投影的多个频率中的最低频率进行循环差值运算；或者，使用多个频率的条纹进行循环差值运算，对多个频率得到的掩膜结果逐像素比较，逐像素保留光强值最高的区域； 或用以下步骤S3＇替代步骤S3： S3＇、从步骤S1求解的相移图中取任意一个频率或多个频率的N步相移图，对所有的N步相移图进行逐像素比较，通过比较相同位置的像素值，选择出最大值作为高对比度掩膜图的像素值，然后对所述高对比度掩膜图进行二值化操作，生成最终的掩膜； S4、将步骤S2获得的被测物体的绝对相位图和步骤S3或步骤S3＇获得的掩膜相乘，获得黑色区域和阴影区域得到修正的被测物体的绝对相位图。

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