日产化学株式会社加藤祐希获国家专利权
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龙图腾网获悉日产化学株式会社申请的专利包含酸二酐的反应产物的抗蚀剂下层膜形成用组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118276405B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410452510.6，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权包含酸二酐的反应产物的抗蚀剂下层膜形成用组合物是由加藤祐希;广原知忠;田村护设计研发完成，并于2022-01-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本包含酸二酐的反应产物的抗蚀剂下层膜形成用组合物在说明书摘要公布了：本发明提供能够形成所期望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜形成用组合物、及使用该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。该抗蚀剂下层膜形成用组合物包含具有下述式I表示的单元结构的聚合物、和溶剂，式I中，A1、A2、A3、A4、A5及A6各自独立地表示氢原子、甲基或乙基，Q1表示2价的有机基团，R1表示包含碳原子数为6～40的芳香环结构的4价有机基团，L1及L2各自独立地表示氢原子、或可被羟基取代也可被氧原子中断的碳原子数为1～10的烷基。
本发明授权包含酸二酐的反应产物的抗蚀剂下层膜形成用组合物在权利要求书中公布了：1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含具有下述式a-2表示的重复单元的聚合物、和溶剂； 式a-2中，Y1表示单键、可以被氧原子、硫原子或卤素原子取代的碳原子数为1～10的亚烷基或磺酰基，n1个T1及n2个T2各自独立地表示氢原子或碳原子数为1～10的烷基，可以相互键合而桥连两个苯环，n1及n2各自独立地表示0～4的整数，A1、A2、A3、A4、A5及A6各自独立地表示氢原子、甲基或乙基， Q1表示由下述10-h～10-k表示的化合物衍生的结构， L1和L2各自独立地表示氢原子、或可被羟基取代也可被氧原子中断的碳原子数为1～10的烷基。
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