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龙图腾网获悉西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司申请的专利一种抛光液补液设备、方法以及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118721017B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410841858.4，技术领域涉及：B24B37/34；该发明授权一种抛光液补液设备、方法以及装置是由张申申设计研发完成，并于2024-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种抛光液补液设备、方法以及装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种抛光液补液设备、方法以及装置。该设备包括：存储罐，用于回收和存储抛光液，并为与所述存储罐连接的抛光设备提供抛光液；数据分析装置，用于根据所存储的目标模型确定对所述存储罐进行补液的第一速度，并将所述第一速度作为补液速度发送给控制装置；与所述数据分析装置连接的所述控制装置，用于根据所述数据分析装置发送的补液速度控制补液系统对所述存储罐进行补液的速度。本发明的方案，根据包括抛光设备的运行参数和抛光垫的磨损情况，确定所述抛光设备的抛光液消耗量，从而确定对存储罐进行补液的第一速度，实现了对抛光液的自动补液，提高了抛光效率且避免了因补液不及时造成晶圆报废的问题。

本发明授权一种抛光液补液设备、方法以及装置在权利要求书中公布了：1.一种抛光液补液设备，其特征在于，包括： 存储罐，用于回收和存储抛光液，并为与所述存储罐连接的抛光设备提供抛光液； 数据分析装置，用于根据所存储的目标模型确定对所述存储罐进行补液的第一速度，并将所述第一速度作为补液速度发送给控制装置；所述目标模型的输出为对所述存储罐进行补液的第一速度，所述目标模型的输入包括：所述抛光设备的运行参数以及抛光设备中抛光垫的磨损情况；所述抛光设备的运行参数，包括：抛光盘对待抛光件施加的压力、抛光盘的转速； 与所述数据分析装置连接的所述控制装置，用于根据所述数据分析装置发送的补液速度控制补液系统对所述存储罐进行补液的速度； 其中，所述设备还包括：监控装置； 所述监控装置靠近所述存储罐设置，用于监控所述存储罐内抛光液的第一参数；所述第一参数包括液位高度； 所述数据分析装置还用于： 获取所述存储罐内抛光液当前的第一液位高度； 根据所述第一液位高度以及第二参数，确定对所述存储罐进行补液的第二速度，所述第二参数包括：所述存储罐内抛光液的目标液位高度、预设补液时间、单位液位高度的抛光液的目标体积； 确定所述第一速度和所述第二速度的和为目标速度； 将所述目标速度作为补液速度发送给所述控制装置。

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