嘉兴学院胡林获国家专利权
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龙图腾网获悉嘉兴学院申请的专利一种界面修饰层材料及其合成方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118745179B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410510373.7，技术领域涉及：C07D471/16；该发明授权一种界面修饰层材料及其合成方法和应用是由胡林;全建玮;金英芝;尹新星;宋嘉兴;苏振;李在房设计研发完成，并于2024-04-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种界面修饰层材料及其合成方法和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及光电功能材料技术领域，尤其是一种界面修饰层材料及其合成方法和应用。本发明提供的界面修饰层材料通过在BPhen分子结构中苯环的对位引入官能团增加分子的位阻，减小分子的聚集结晶；合成的菲啰啉衍生物分子量变大，玻璃化转变温度相对于BPhen更高，材料的热稳定性更好；合成的菲啰啉衍生物以离子化的季铵盐形式存，相比于BPhen或BCP分子结构中的亚胺基反应活性更弱，有利于提升器件的稳定性；且本发明提供的界面修饰层材料合成方法简单，产率高，易提纯，价格便宜，能够大规模制备。这种界面修饰层材料可应用在半导体光电器件中，作为电极修饰层，降低电极功函数。
本发明授权一种界面修饰层材料及其合成方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种界面修饰层材料，其特征是：具有如下式II所示的分子结构： 其中：R1为H； R2为C6～C12的芳氧基； R4为C1～C6的烷基； X为卤素Br或I。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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