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龙图腾网获悉京磁材料科技股份有限公司申请的专利磁场聚焦取向的钕铁硼永磁体及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119008158B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411227353.5，技术领域涉及：H01F1/057；该发明授权磁场聚焦取向的钕铁硼永磁体及其制备方法是由徐吉元;张继;熊晏秋;史荣莹设计研发完成，并于2024-09-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本磁场聚焦取向的钕铁硼永磁体及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了磁场聚焦取向的钕铁硼永磁体及其制备方法。所述永磁体包括中心区域以及至少一组侧区域，每组侧区域包括对称分布在所述中心区域两侧的两个侧区域；所述永磁体中RE含量从所述中心区域向所述边缘区域逐个区域降低，Co含量逐渐升高；所述永磁体的碳含量从所述中心区域向所述边缘区域逐个区域升高；所述永磁体内垂直于取向方向的热膨胀系数从所述中心区域向所述边缘区域逐个区域增加；所述永磁体的垂直于取向方向与平行于取向方向的热膨胀系数之间的差值从所述中心区域向所述边缘区域逐个区域降低。本发明可以提高永磁体的聚磁效果，减少永磁体的内应力，提高成品合格率。

本发明授权磁场聚焦取向的钕铁硼永磁体及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种磁场聚焦取向的钕铁硼永磁体，其特征在于，所述永磁体包括中心区域以及至少一组侧区域，所述永磁体在所述中心区域具有对称面，每组侧区域包括对称分布在所述中心区域两侧的两个侧区域，所述至少一组侧区域中最靠外侧的一组侧区域为一组边缘区域； 每组侧区域的成分和磁体性能保持一致； 所述永磁体在所述中心区域或所述侧区域的成分按质量百分比计为：RELaREHbCocCudMeFebalBf，24≤a≤31，0≤b≤4，0≤c≤30，0.1≤d≤0.8，0.2≤e≤3，0.86≤f≤1.2，28≤a+b≤35，bal为余量；REL为轻稀土Pr、Nd、La、Ce和Y中的一种或几种的组合，REH为重稀土Gd、Ho、Dy和Tb中的一种或几种的组合，M是Al、Cr、Nb、Zr、Ga、Ti、V、Mo和Mn中的一种或几种的组合； 所述永磁体中RE含量从所述中心区域向所述边缘区域逐个区域降低，Co含量逐渐升高，所述中心区域的成分分布为富RE贫Co，所述边缘区域的成分分布为贫RE富Co，所述中心区域与所述边缘区域之间的RE含量之差≤1％，所述边缘区域与所述中心区域之间的Co含量之差≤30％，其中，RE含量为REL和REH之和； 所述永磁体的碳含量从所述中心区域向所述边缘区域逐个区域升高，并且所述中心区域和所述边缘区域之间的碳含量之差≥400ppm； 所述永磁体内垂直于取向方向的热膨胀系数从所述中心区域向所述边缘区域逐个区域增加；所述永磁体的平行于取向方向的热膨胀系数在所述中心区域以及所述至少一组侧区域之间的无明显差异；所述永磁体的垂直于取向方向的热膨胀系数与平行于取向方向的热膨胀系数之间的差值从所述中心区域向所述边缘区域逐个区域降低； 所述永磁体具有与所述对称面相垂直的聚焦面，在所述聚焦面上所述永磁体的磁场强度从边缘区域向所述中心区域逐个区域增加。

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