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京东方科技集团股份有限公司刘建兴获国家专利权

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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利一种天线和电子设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119072825B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202380008544.X,技术领域涉及:H01P1/18;该发明授权一种天线和电子设备是由刘建兴;张诗雨;焦卓凡;于孟夏;赵建昀设计研发完成,并于2023-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。

一种天线和电子设备在说明书摘要公布了:本公开提供一种天线和电子设备,属于天线技术领域。其中天线包括至少一个移相结构、第一参考电极层和馈电基板;移相结构包括第一介质基板、第二介质基板、第一电极层、第二电极层和可调电介质层;第一参考电极层具有第一开口;馈电基板包括位于第一参考电极层背离可调电介质层一侧的第一介质层和位于第一介质层背离第一参考电极层一侧的馈电结构;第一介质层具有沿其厚度方向贯穿的第二开口;天线还包括导电件;馈电结构包括一条主路和与主路电连接的至少一条支路;一条支路与一个导电件电连接,且导电件通过第一开口、第二开口和第三开口与第一电极层电连接;第三开口沿第一介质基板的厚度方向上,贯穿第一介质基板的至少部分厚度。

本发明授权一种天线和电子设备在权利要求书中公布了:1.一种天线,其包括至少一个移相结构、第一参考电极层和馈电基板;其中,所述移相结构包括相对设置的第一介质基板和第二介质基板,以及设置在二者之间的第一电极层、第二电极层和可调电介质层;所述可调电介质层位于所述第一电极层和所述第二电极层之间; 所述第一参考电极层位于所述第一介质基板背离所述可调电介质层的一侧,且具有第一开口; 所述馈电基板包括第一介质层和馈电结构,所述第一介质层位于所述第一参考电极层背离所述可调电介质层一侧,所述馈电结构位于所述第一介质层背离所述第一参考电极层的一侧;所述第一介质层具有沿其厚度方向贯穿的第二开口; 所述天线还包括导电件;所述馈电结构包括一条主路和与所述主路电连接的至少一条支路;一条所述支路与一个所述导电件电连接,且所述导电件通过所述第一开口、所述第二开口和第三开口与所述第一电极层电连接;所述第三开口沿所述第一介质基板的厚度方向上,贯穿所述第一介质基板的至少部分厚度。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人京东方科技集团股份有限公司,其通讯地址为:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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