浙江奥首材料科技有限公司褚雨露获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江奥首材料科技有限公司申请的专利等离子切割保护液及其应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119101410B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411190606.6,技术领域涉及:C09D129/04;该发明授权等离子切割保护液及其应用是由褚雨露;张楠;侯军;李传友设计研发完成,并于2024-08-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子切割保护液及其应用在说明书摘要公布了:本申请公开了一种等离子切割保护液及其应用,以质量份计,等离子切割保护液包括如下组分:5‑12份的水溶性树脂,1‑5份的聚合物电解质,0.05‑0.25份的缓蚀剂,0.01‑0.1份的流平剂,0.01‑0.1份的增塑剂,5‑10份的有机溶剂,50‑80份的超纯水;其中,聚合物电解质用于吸附并传导金属离子向远离晶圆表面的方向迁移,以使金属离子与金属键合结构不接触。本申请中采用的聚合物电解质具有强吸附性,能够对金属离子紧密吸附,使得金属离子优先沿着聚合物电解质分子链从膜层底部向膜层顶部迁移,避免了金属离子沿着芯片表面迁移析出的问题。
本发明授权等离子切割保护液及其应用在权利要求书中公布了:1.一种等离子切割保护液,用于涂覆在晶圆的表面,所述晶圆的表面包括多个金属电极结构,所述金属电极结构能够被腐蚀,在所述等离子切割保护液中形成游离的金属离子,其特征在于,以质量份计,等离子切割保护液包括如下组分:5-12份的水溶性树脂,1-5份的聚合物电解质,0.05-0.25份的缓蚀剂,0.01-0.1份的流平剂,0.01-0.1份的增塑剂,5-10份的有机溶剂,50-80份的超纯水; 所述聚合物电解质的结构式如下式所示: 其中,n1表示聚合度,n1的范围为100-300的整数;R1为CmH2mSO3M,m的范围为4~8,M选自Li、Na、K、H中的任意一者; 其中,所述聚合物电解质用于吸附并传导所述金属离子向远离所述晶圆表面的方向迁移,以使所述金属离子与所述金属电极结构不接触。
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