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龙图腾网获悉苏州派迅智能科技有限公司;合肥芯谷智恩信息科技有限公司;芯庭精密电子(山东)有限公司申请的专利垂直式炉管晶圆及晶舟高效传送系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119133049B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411248901.2，技术领域涉及：H01L21/677；该发明授权垂直式炉管晶圆及晶舟高效传送系统及方法是由李雨庭;李游;李发芝;蔡宗捷;李昀轩设计研发完成，并于2024-09-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本垂直式炉管晶圆及晶舟高效传送系统及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体技术领域，提供了一种垂直式炉管晶圆及晶舟高效传送系统及方法，输送方法包括以下步骤：将装有待工艺晶圆的待工艺晶舟输送至炉管外的备料区；将炉管内的装有工艺后晶圆的工艺后晶舟通过第一输送装置按照第一输送路径输送至冷却区，同时将待工艺晶舟由备料区通过第二输送装置按照第二输送路径输送至炉管内，所述第一输送路径与所述第二输送路径不交叉；将冷却后的工艺后晶舟内的工艺后晶圆装入空晶盒中，工艺后晶舟变为空晶舟，将待工艺晶圆从晶盒装载至空晶舟内形成待工艺晶舟，将待工艺晶舟输送至备料区等待炉管下一工艺周期。该传送方法，可极限压缩炉管闲置等待时间，提高炉管的生产效率。

本发明授权垂直式炉管晶圆及晶舟高效传送系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种垂直式炉管晶圆及晶舟高效传送方法，其特征在于，包括以下步骤： 将装有待工艺晶圆的待工艺晶舟输送至炉管外的备料区； 炉管完成炉腔工艺后，将炉管内的装有工艺后晶圆的工艺后晶舟通过第一输送装置按照第一输送路径输送至冷却区，同时将待工艺晶舟由备料区通过第二输送装置按照第二输送路径输送至炉管内，所述第一输送路径与所述第二输送路径不交叉，一冷却区对应多个炉管，各炉管均配置有一第一输送路径且配置有一备料区； 将冷却后的工艺后晶舟内的工艺后晶圆装入空晶盒中，工艺后晶舟变为空晶舟，将待工艺晶圆从晶盒装载至所述空晶舟内形成待工艺晶舟，将所述待工艺晶舟输送至备料区等待炉管下一工艺周期； 其中，所述第一输送装置、所述第二输送装置、所述第一输送路径和所述第二输送路径设置为：使得炉管的每一工艺周期完成前均有一个待工艺晶舟被输送至相应炉管对应的所述备料区，以及在炉管执行炉腔工艺期间，同时执行至少一个工艺后晶舟的冷却，和或，执行工艺后晶圆在工艺后晶舟与空晶盒之间的转移，和或，执行待工艺晶圆在晶盒与空晶舟之间的转移； 将炉管内的工艺后晶舟通过第一输送装置按照第一输送路径输送至冷却区之前还包括以下步骤： 预先获取各所述炉腔工艺完成的时间，将最先完成炉腔工艺的炉管作为目标炉管，第一输送装置运行至目标炉管外等待； 和或，将待工艺晶舟输送至备料区等待炉管下一工艺周期包括以下步骤： 预先获取各所述炉腔工艺完成的时间，将最先完成炉腔工艺的炉管作为目标炉管，将待工艺晶舟输送至目标炉管对应的备料区等待目标炉管的下一工艺周期； 和或，所述第一输送路径和所述第二输送路径通过以下方法确定： 所述备料区至相应炉管以及炉管至冷却台之间具有多条输送路径，将最先完成炉腔工艺的炉管作为目标炉管，并基于目标炉管设定其中一条输送路径作为所述第一输送路径，并设定另一条输送路径作为所述第二输送路径，以使得所述第一输送路径和所述第二输送路径最短且不交叉； 所述炉管外还设置有装卸区； 所述第一输送装置运行至目标炉管外等待还包括以下步骤： 检测所述冷却区是否有空位； 若所述冷却区无空位，则待冷却区中至少一工艺后晶舟冷却后，通过第一输送装置将该工艺后晶舟输送至装卸区，然后第一输送装置运行至目标炉管外等待； 若所述冷却区有空位，第一输送装置直接运行至目标炉管外等待。

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