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龙图腾网获悉广州奥松电子股份有限公司申请的专利一种氧敏感膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119147512B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411274226.0，技术领域涉及：G01N21/64；该发明授权一种氧敏感膜及其制备方法和应用是由张宾;李婷;陈新准;朱瑞;段维振;肖淑英;黄银纯设计研发完成，并于2024-09-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种氧敏感膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种氧敏感膜及其制备方法和应用，包括如下步骤：S1：将含氟硅烷溶解在有机溶剂中，加入盐酸和水使含氟硅烷完全水解，于50‑80℃下静置1‑5h，再加入封端剂，混合搅拌均匀，再将溶液高温烘烤，获得材料I；S2：将荧光指示剂溶解在有机溶剂中，再往该溶液加入纳米无机氧化物，搅拌，静置分层，离心、干燥、研磨，获得材料II；所述荧光指示剂为富勒烯材料；S3：将材料I、材料II按质量比50:1～100:1加入有机溶剂中，搅拌混合均匀；S4：将S3混合均匀的溶液滴加在基材上，旋涂后干燥，获得氧敏感膜。本发明氧敏感膜灵敏度高，且具有良好的光稳定性和高温稳定性，可用于制备氧传感器，应用范围广泛。

本发明授权一种氧敏感膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种氧敏感膜的制备方法，其特在于，包括如下步骤： S1：将三甲氧基五氟苯基硅烷溶解在有机溶剂中，加入盐酸和水使含氟硅烷完全水解，于50-80℃下静置1-5h，再加入封端剂二甲基二甲氧基硅烷，混合搅拌均匀，再将溶液高温烘烤，获得材料I；三甲氧基五氟苯基硅烷与封端剂的摩尔比为15:1～25:1；所述有机溶剂为乙醇； S2：将荧光指示剂溶解在有机溶剂中，再往该溶液加入纳米无机氧化物，充分搅拌，静置分层，离心、干燥、研磨，获得材料II；所述荧光指示剂为富勒烯C60；所述荧光指示剂与纳米无机氧化物的质量比为1：5-25；所述荧光指示剂的浓度为5-15mgml，纳米无机氧化物的添加量为0.05-0.2gml；所述荧光指示剂与纳米无机氧化物的质量比为1：12.5±2.5；所述纳米无机氧化物为二氧化硅； S3：将材料I、材料II按质量比50:1～100:1加入有机溶剂中，搅拌混合均匀； S2及S3中所述有机溶剂为甲苯、二氯甲苯中的一种或两种； S4：将S3混合均匀的溶液滴加在基材上，旋涂后干燥，获得氧敏感膜。

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