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龙图腾网获悉北京大学深圳研究生院;深圳市大族半导体装备科技有限公司申请的专利一种光刻机及光源阵列化调节方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119247702B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411293941.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种光刻机及光源阵列化调节方法是由陆磊;韩子娟;尹建刚;王云萍;王帆帆;张盛东设计研发完成，并于2024-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光刻机及光源阵列化调节方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种光刻机及光源阵列化调节方法，其中，该方法用于获取待光刻的目标光刻图案，根据目标光刻图案确定平行光分布形状控制算法，控制UV平行光源产生UV平行光，根据平行光分布形状控制算法控制阵列化空间光调制器对射入的UV平行光的分布形状进行整形形成目标初步整形光束，根据掩膜板对射入的目标初步整形光束进行整形，形成目标二次整形光束，控制聚焦镜对射入的目标二次整形光束进行聚焦，形成目标光刻图案对应的目标曝光光束。本申请能够使光刻机精确输出目的光的分布形状。

本发明授权一种光刻机及光源阵列化调节方法在权利要求书中公布了：1.一种光刻机，其特征在于，包括： UV平行光源，所述UV平行光源用于产生UV平行光； 阵列化空间光调制器，所述阵列化空间光调制器用于对射入的所述UV平行光的分布形状进行整形，形成初步整形光束； 掩膜板，所述掩膜板用于对射入的所述初步整形光束的分布形状进行整形，形成二次整形光束； 聚焦镜，所述聚焦镜用于对所述二次整形光束进行聚焦，形成曝光光束； 处理器，所述处理器分别与所述UV平行光源、所述阵列化空间光调制器以及所述聚焦镜连接，所述处理器用于： 获取待光刻的目标光刻图案； 根据所述目标光刻图案确定平行光分布形状控制算法； 控制所述UV平行光源产生目标UV平行光； 根据所述平行光分布形状控制算法控制所述阵列化空间光调制器对射入的所述目标UV平行光的分布形状进行整形形成目标初步整形光束； 根据所述掩膜板对射入的所述目标初步整形光束进行整形，形成目标二次整形光束； 控制所述聚焦镜对射入的所述目标二次整形光束进行聚焦，形成所述目标光刻图案对应的目标曝光光束； 所述处理器还用于： 将所述目标光刻图案分割为目标基本掩膜图案组； 通过人工智能确定所述阵列化空间光调制器对应所述目标基本掩膜图案组中每一目标基本掩膜图案的控制专用算法； 根据每一所述控制专用算法生成所述平行光分布形状控制算法； 所述处理器还用于： 获取基本掩膜图案； 获取所述基本掩膜图案在阵列化空间光调制器的不同调制参数下的光刻算法以及曝光显影结果； 基于人工智能建立所述曝光显影结果与调制参数之间的关系，生成所述控制专用算法。

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