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龙图腾网获悉合肥芯碁微电子装备股份有限公司申请的专利提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119292005B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411720670.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机是由卞洪飞;张辉;叶加良;陈东设计研发完成，并于2024-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机在说明书摘要公布了：本发明公开了一种提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机，该装置包括：光源、照明光路、调制单元和控制器，控制器连接光源，且控制器还与调制单元连接，用于控制光源发射照射光线，以及向调制单元发送原始图像或者对原始图像进行拉伸后，将得到的拉伸图像发送至调制单元；调制单元，用于在第一照射区域内对原始图像进行单方向的拉伸和压缩处理，得到曝光图像，或者，调制单元用于在第一照射区域内对拉伸图像进行单方向的压缩处理，得到曝光图像，其中，第一照射区域大于或等于原始图像所占的区域。本发明能够确保输出的曝光图像不变形，使得曝光图像与原始图像的尺寸一致，提高了曝光面的功率密度，且不损失扫描宽度，降低成本。

本发明授权提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机在权利要求书中公布了：1.一种提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置，其特征在于，包括：光源、照明光路、调制单元和控制器， 所述光源用于提供照射光线； 所述照明光路，用于接收所述照射光线，并对所述照射光线进行准直和均匀化处理，输出第一处理光线； 所述调制单元，用于接收所述第一处理光线并形成第一照射区域，其中，所述第一照射区域为所述照明光路在所述调制单元上形成的照射区域； 所述控制器连接所述光源，且所述控制器还与所述调制单元连接，用于控制所述光源发射所述照射光线，以及向所述调制单元发送原始图像或者对所述原始图像进行拉伸后，将得到的拉伸图像发送至所述调制单元； 所述调制单元，用于在所述第一照射区域内对所述原始图像进行单方向的拉伸和压缩处理，得到曝光图像，或者，所述调制单元用于在所述第一照射区域内对所述拉伸图像进行单方向的压缩处理，得到所述曝光图像，其中，所述第一照射区域大于或等于所述原始图像所占的区域； 所述调制单元包括空间光调制器和成像光路，所述空间光调制器用于对所述原始图像进行拉伸处理，输出第一处理图像，所述成像光路与所述空间光调制器连接，用于对所述第一处理图像进行压缩处理，输出所述曝光图像；或者，所述调制单元包括所述空间光调制器和所述成像光路，所述空间光调制器用于接收所述控制器发送的所述拉伸图像，所述成像光路与所述空间光调制器连接，用于对所述拉伸图像进行压缩处理，输出所述曝光图像。

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