武汉华星光电半导体显示技术有限公司黄飞兰获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利显示模组和显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119445989B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411876471.9,技术领域涉及:G09F9/30;该发明授权显示模组和显示装置是由黄飞兰设计研发完成,并于2024-12-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示模组和显示装置在说明书摘要公布了:本申请提供一种显示模组和显示装置,显示模组包括显示面板以及设置于显示面板背面的支撑件,支撑件包括对应显示模组内弯区的第一应力释放区、以及对应显示模组外弯区的第二应力释放区,支撑件在第二应力释放区形成有第一凹槽和第二凹槽,在显示模组的弯折方向上,第一凹槽的宽度大于第二凹槽的宽度,显示模组还包括至少位于第一凹槽内的辅助件;如此,通过设置宽度较大的第一凹槽,并在第一凹槽内设置辅助件,在满足第一凹槽避让中框需求的同时,还能够在贴合支撑件时,使贴附装置的滚轮通过辅助件将压力传递给支撑件,以满足贴合需求,避免出现贴合气泡。
本发明授权显示模组和显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示模组,其特征在于,显示模组具有至少一弯折区以及位于所述弯折区至少一侧的非弯曲区,所述弯折区包括至少一内弯区以及位于所述内弯区至少一侧的外弯区;所述显示模组包括: 显示面板,具有出光面以及背离所述出光面的背面; 支撑件,设置于所述显示面板的背面,所述支撑件包括对应所述内弯区的第一应力释放区、以及对应所述外弯区的第二应力释放区,所述支撑件在所述第二应力释放区形成有第一凹槽和第二凹槽,在所述显示模组的弯折方向上,所述第一凹槽的宽度大于所述第二凹槽的宽度; 辅助件,至少位于所述第一凹槽内,且在所述显示模组的厚度方向上,所述辅助件的厚度小于所述第一凹槽的深度。
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