深圳晶源信息技术有限公司陈孔杰获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利光源掩膜协同优化IRO模型的确定方法、装置及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119472183B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411549219.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光源掩膜协同优化IRO模型的确定方法、装置及设备是由陈孔杰设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本光源掩膜协同优化IRO模型的确定方法、装置及设备在说明书摘要公布了：本申请提供了一种光源掩膜协同优化IRO模型的确定方法、装置及设备，通过将预获取的测试图形输入至初始IRO模型中，得到初始设计版图对应的初始光源，测试图形包括初始设计版图中的关键图形；根据初始光源，使用目标光刻胶对测试掩膜版进行光刻，得到实际曝光能量矩阵FEM数据和位于测试掩膜版关键位置处的目标光刻胶的实际截面数据，测试掩膜版根据测试图形确定；根据实际FEM数据和实际截面数据，确定光刻胶模型，对初始IRO模型进行优化，得到目标IRO模型。本申请实施例能够提高IRO模型的优化准确性。
本发明授权光源掩膜协同优化IRO模型的确定方法、装置及设备在权利要求书中公布了：1.一种光源掩膜协同优化IRO模型的确定方法，其特征在于，所述方法包括： 将预获取的测试图形输入至初始IRO模型中，得到初始设计版图对应的初始光源，所述测试图形包括初始设计版图中的关键图形； 根据所述初始光源，使用目标光刻胶对测试掩膜版进行光刻，得到实际曝光能量矩阵FEM数据和位于所述测试掩膜版关键位置处的目标光刻胶的实际截面数据，所述测试掩膜版根据所述测试图形确定； 根据所述实际FEM数据和所述实际截面数据，确定光刻胶模型； 基于所述光刻胶模型，对所述初始IRO模型进行优化，得到目标IRO模型。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳晶源信息技术有限公司，其通讯地址为：518000 广东省深圳市福田区福保街道福保社区红棉街8号英达利科技数码园C栋401A；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励