福建省金龙稀土股份有限公司汤志辉获国家专利权
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龙图腾网获悉福建省金龙稀土股份有限公司申请的专利钕铁硼磁体及其制备方法和应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119601330B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311125217.0,技术领域涉及:H01F1/057;该发明授权钕铁硼磁体及其制备方法和应用是由汤志辉;李可;陈大崑;许德钦;付刚;黄佳莹;王金磊;饶光辉;黄志高设计研发完成,并于2023-09-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本钕铁硼磁体及其制备方法和应用在说明书摘要公布了:本发明公开了一种钕铁硼磁体及其制备方法和应用。其包括沿垂直于充磁方向依次排布的第一易退磁区、非易退磁区和第二易退磁区;非易退磁区与第一易退磁区的矫顽力比值为0.7‑1:1,且不为1:1,第一易退磁区和所述第二易退磁区的矫顽力相同;第一易退磁区和第二易退磁区中的重稀土元素的浓度相同,在第一易退磁区中,△4为1‑1.3;在非易退磁区中,△1为1‑1.2,△2为1‑1.25,△3为1‑1.3。该钕铁硼磁体可以在降低钕铁硼磁体的重稀土用量的前提下,保证高矫顽力、高热稳定性、高方形度和高磁矩。
本发明授权钕铁硼磁体及其制备方法和应用在权利要求书中公布了:1.一种钕铁硼磁体,其特征在于,所述钕铁硼磁体包括沿垂直于充磁方向依次排布的第一易退磁区、非易退磁区和第二易退磁区;所述非易退磁区与所述第一易退磁区的矫顽力比值为0.7-1:1,且不为1:1,所述第一易退磁区和所述第二易退磁区的矫顽力相同; 所述第一易退磁区和所述第二易退磁区中的重稀土元素的浓度相同,在所述第一易退磁区中,距第一表层垂直距离为0.5mm位置处和距第一表层垂直距离为1mm位置处的重稀土元素的浓度比值△4为1.18-1.26; 在所述非易退磁区中,距第三表层垂直距离为0.5mm位置处和距第三表层垂直距离为1mm位置处的重稀土元素的浓度比值△1为1.02-1.11;距第三表层垂直距离为1mm位置处和距第三表层垂直距离为1.5mm位置处的重稀土元素的浓度比值△2为1.05-1.12;距第三表层垂直距离为1.5mm位置处和距第三表层垂直距离为2mm位置处的重稀土元素的浓度比值△3为1.05-1.15; 其中,所述钕铁硼磁体的第一表层为所述第一易退磁区平行于充磁方向且垂直于排布方向的外表面,所述钕铁硼磁体的第二表层为所述第二易退磁区的平行于充磁方向且垂直于排布方向的外表面;所述钕铁硼磁体的第三表层为所述非易退磁区的垂直于充磁方向的上表面。
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