中国科学院大连化学物理研究所杨维慎获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院大连化学物理研究所申请的专利一种金属-有机框架膜的修饰方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119607911B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311184899.2，技术领域涉及：B01D71/06；该发明授权一种金属-有机框架膜的修饰方法及其应用是由杨维慎;张耀辉;班宇杰设计研发完成，并于2023-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种金属-有机框架膜的修饰方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开一种金属‑有机框架膜的修饰方法及其应用，属于金属‑有机框架膜技术领域。本发明首先制备金属‑有机框架基膜，然后利用高温下修饰剂产生的蒸气在膜材料表面组装超分子阵列，得到复合膜材料，该过程不需要溶剂；修饰剂用量少、可多次利用，易于回收；修饰反应后亦无需对基膜进行溶剂清洗。本发明的金属‑有机框架膜在混合气体分离和混合液体分离方面有着巨大潜力。
本发明授权一种金属-有机框架膜的修饰方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种金属-有机框架膜的修饰方法，其特征在于，包括如下步骤： 1合成载体支撑型的金属-有机框架基膜或者自支撑金属-有机框架基膜； 2将修饰剂置于反应釜中，将步骤1得到的载体支撑型的金属-有机框架基膜或者自支撑金属-有机框架基膜放于支架上后置于反应釜中，与修饰剂分隔开，随后在70~220℃温度下反应0.5~120小时，完成金属-有机框架膜的修饰； 3将步骤2得到的膜片在0-5000Pa的真空环境下处理1~180min； 步骤1中所述的金属-有机框架基膜包括ZIF-L、ZIF-8、MOF-74和MIL-53； 步骤2中所述的修饰剂为1，2，3-三氮唑及其衍生物或1，2，4-三氮唑及其衍生物。
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