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龙图腾网获悉同济大学申请的专利一种基于椭偏和紫外可见光谱互校准的介质薄膜测试方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119619015B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411739957.8，技术领域涉及：G01N21/21；该发明授权一种基于椭偏和紫外可见光谱互校准的介质薄膜测试方法是由张锦龙;夏菁菁;王利波;焦宏飞;钮信尚;汲小川;李冬冬;程鑫彬;王占山设计研发完成，并于2024-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于椭偏和紫外可见光谱互校准的介质薄膜测试方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于椭偏和紫外可见光谱互校准的介质薄膜测试方法，包括以下步骤：首先拟合椭偏光谱获得折射率和消光系数的初值，对比正常消光系数色散模型，确定异常波段；其次拟合透射光谱，截取对应椭偏仪异常波段的透射光谱折射率和消光系数；然后计算加权因子和平移因子，校准透射光谱在异常波段的折射率和消光系数；最后校正异常波段的椭偏光谱，重新拟合获得校准的折射率和消光系数。本发明采用上述的一种基于椭偏和紫外可见光谱互校准的介质薄膜测试方法，应用紫外可见光谱的结果内标特定波段的椭偏光谱，实现折射率和厚度的准确拟合，从而提高了介质薄膜检测精度。

本发明授权一种基于椭偏和紫外可见光谱互校准的介质薄膜测试方法在权利要求书中公布了：1.一种基于椭偏和紫外可见光谱互校准的介质薄膜测试方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、拟合椭偏光谱获得折射率和消光系数的初值，对比正常消光系数色散模型，确定异常波段； S2、拟合透射光谱，截取对应椭偏仪异常波段的透射光谱折射率和消光系数； S3、计算加权因子和平移因子，校准透射光谱在异常波段的折射率和消光系数； S4、校正异常波段的椭偏光谱，重新拟合获得校准的折射率和消光系数； S2中，应用柯西色散关系结合包络法拟合透射光谱，截取对应椭偏仪异常波段的透射光谱折射率和消光系数； S3中，通过计算使折射率拼接段端点相接的加权因子和平移因子，获得异常波段校准的折射率和消光系数，找到与柯西色散模型对应端点处斜率相符同时满足最多的椭偏原数据保留条件下的线性加权平移因子； S4中，应用校准的折射率和消光系数计算异常波段校正的椭偏光谱的振幅比和相位差，并替换异常波段实测的椭偏光谱的振幅比和相位差，应用柯西色散关系和Urbach尾部吸收重新拟合椭偏光谱，获得校准的折射率和消光系数。

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