昆明理工大学刘洪喜获国家专利权
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龙图腾网获悉昆明理工大学申请的专利一种激光熔覆双相高熵合金涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119685675B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411924485.3，技术领域涉及：C22C30/00；该发明授权一种激光熔覆双相高熵合金涂层及其制备方法是由刘洪喜;杨琛;刘宇翀;刘亚霞;郝轩弘;王悦怡设计研发完成，并于2024-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种激光熔覆双相高熵合金涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种激光熔覆双相高熵合金涂层及其制备方法，属于激光表面改性技术领域。激光熔覆双相高熵合金涂层，以原子百分比计，包括以下原料：Al为9～16％、Cr为11～17％、Fe为11～18％、Ti为13～20％、V为10～15％、Ni为28～33％。本发明的激光熔覆双相高熵合金涂层抗高温氧化性和耐磨性好，可以与TC4钛合金基材的热物性参数相互匹配，熔覆层无明显缺陷且与基材形成冶金结合，可以延长TC4钛合金的服役寿命，拓宽了其在极端工况环境下的应用场景，大大节约了TC4钛合金的开发资源。
本发明授权一种激光熔覆双相高熵合金涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种激光熔覆双相高熵合金涂层，其特征在于，以原子百分比计，包括以下原料：Al为9～16％、Cr为11～17％、Fe为11～18％、Ti为13～20％、V为10～15％、Ni为28～33％。
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