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龙图腾网获悉南京邮电大学申请的专利一种谐振式InGaN量子阱集成微光机电加速度计装置及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119716141B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411914380.X，技术领域涉及：G01P15/093；该发明授权一种谐振式InGaN量子阱集成微光机电加速度计装置及其制备方法是由朱刚毅;颜新悦;陈奕彤;郭建勋;秦飞飞;王子轩;蔡志匡设计研发完成，并于2024-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种谐振式InGaN量子阱集成微光机电加速度计装置及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种谐振式InGaN量子阱集成微光机电加速度计装置以及其制备方法，将硅基氮化物晶片作为载体，从下至上的结构依次为硅衬底层、氮化铝层、u型氮化镓层、n型氮化镓层、InGaN量子阱层、p型氮化镓层，并在p型氮化镓层的上方设置p型电极，在n型氮化镓层边缘的上方设置n型电极。在本发明中，利用光刻刻蚀工艺和ICP刻蚀工艺在硅衬底上的氮化物材料制备出两个拥有不同形状的谐振梁探测器和月牙形LED，通过具有月牙形LED的发光汇聚到高灵敏度谐振梁，在加速度负载下，谐振梁接收到的光电流周期性变化，通过周期性的共振频率可反推出对应的加速度大小，使具有高灵敏度长直谐振梁的探测装置产生震荡，使之产生周期性变化的电流，感知加速度大小。

本发明授权一种谐振式InGaN量子阱集成微光机电加速度计装置及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种谐振式InGaN量子阱微光机电集成加速度计装置的制备方法，其特征在于，包括LED梁发光装置和LED梁探测装置；其中LED梁探测装置包括一个长方形梁9和与之相连接的两个圆盘，LED梁发光装置为一个月牙形梁10和与之相连接的两个圆盘；其中长方形梁9的长度大于所述月牙形梁10的长度，其中月牙形梁10和长方形梁9的左、右两端分别和与之两边相邻的圆盘中部相连接，其中位于左边的圆盘为p形电极7，位于右边的圆盘为n型电极8;其中长方形梁9和月牙形梁10的长度比为1.8：1;装置通过硅基氮化物晶片作为载体，其结构从下至上依次为硅衬底层1、氮化铝层2、u型氮化镓层3、n型氮化镓层4、InGaN量子阱层5、p型氮化镓层6，在p型氮化镓层6上方设置p型电极7，在n型氮化镓层4边缘上方设置n型电极8；其中裸露出来的硅衬底层1之上的结构全部刻蚀掉，所述n型氮化镓层4的边缘处刻蚀了一个阶梯状的台面，所述阶梯状的台面的下台面裸露，n型电极8沉积在下台面之上，所述n型氮化镓层4以及n型电极8呈圆环状裸露在表面； 具体步骤如下： 第一步：在硅基氮化镓晶片的p型氮化镓层6的表面上旋涂一层光刻胶，接着，利用光学光刻技术在旋涂的光刻胶上定义两对圆盘，并分别由一根长而细直的长方形梁9和月牙形梁10连接而成的图形， 第二步：在所述第一步定义的图形的上表面，通过电子束蒸镀技术，沉积一层300nm厚度的金属镍；接着将晶片放入丙酮溶液中进行超声处理；处理之后，将晶片依次放入超纯水、无水乙醇中清洗，然后再在超纯水中清洗一次；最后，清除掉剩余的光刻胶，由此得到镍的一个掩膜图形； 第三步：在硅基氮化物晶片的边缘处，通过ICP刻蚀技术，向下刻蚀至n型氮化镓层4的中部，由此将所述的第一步中定义出来的图形成功转移至硅基氮化物晶片的n型氮化镓层4上，得到所要的LED单谐振梁结构，分别为为长方形梁9和月牙形梁10； 第四步：完成所述第三步后，利用稀硝酸去除沉积在晶片表面的金属镍，之后将晶片立即放入超纯水中清洗干净； 第五步：在每个单谐振梁结构LED表面旋涂光刻胶，防止梁结构在刻蚀过程中被刻蚀掉，起到一个保护作用； 第六步：通过电子束蒸镀技术，在所定义的图形上面，沉积一层300nm厚度的金属镍；之后，将外延片依次放入丙酮溶液、无水乙醇、超纯水中进行清洗;最后，清除掉剩余的光刻胶，由此得到镍的一个掩膜图形； 第七步：利用ICP刻蚀技术，将所述第六步得到的图形从n型氮化镓层4向下刻蚀至硅衬底层1表面，由此可把图形转移到硅衬底层1上，最后把残留的光刻胶清洗干净； 第八步：通过用电子束蒸镀技术，在p型氮化镓层6上的p型电极7区图形上蒸镀正电极，在n型氮化镓层4上的n型电极8区图形上蒸镀负电极，然后把残留的光刻胶清洗干净，得到了p型电极7和n型电极8，并且均为圆盘状； 第九步：将氢氟酸与稀硝酸一比十混合，进行湿法刻硅，将硅衬底层刻成两根用于支撑该结构的硅柱和底面，形成两悬空的LED单梁结构。

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