中国科学院兰州化学物理研究所李红轩获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院兰州化学物理研究所申请的专利一种耐潮湿环境和具有良好湿热存储稳定性的MoS2基复合薄膜的制备及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119736590B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411857829.3，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种耐潮湿环境和具有良好湿热存储稳定性的MoS2基复合薄膜的制备及应用是由李红轩;居世凡;刘晓红;吉利;周惠娣;陈建敏设计研发完成，并于2024-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种耐潮湿环境和具有良好湿热存储稳定性的MoS2基复合薄膜的制备及应用在说明书摘要公布了：本发明公开涉及固体润滑薄膜的制备技术领域，主要涉及一种耐潮湿环境和具有良好湿热存储稳定性的MoS2基复合薄膜的制备及应用。薄膜的制备方法包括以下步骤：采用闭合场非平衡磁控溅射技术，使用两个Ti靶和两个MoS2CeO2复合靶材，首先在基材表面先沉积一层Ti过渡层；接下来降低Ti靶电流，提高MoS2CeO2复合靶电流。使在基材上沉积的MoS2‑Ti‑CeO2复合薄膜具有良好的结合力。该薄膜具有结构致密、真空摩擦学性能优异、耐湿热性能良好等优点。解决了MoS2基薄膜在潮湿环境下存储后摩擦学性能急剧下降的问题，提高了MoS2基薄膜的多环境适应性，保证了航天器在地面组装和储存后在太空环境中超长时间的可靠服役。
本发明授权一种耐潮湿环境和具有良好湿热存储稳定性的MoS2基复合薄膜的制备及应用在权利要求书中公布了：1.一种耐潮湿环境和具有良好湿热存储稳定性的MoS2基复合薄膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 1先将基材放置在磁控溅射设备的真空腔室内，保持真空度≤8×10-5Pa，并用冷阱除去腔室内的水分； 2采用闭合场非平衡磁控溅射技术，以金属Ti靶为靶材，以惰性气体Ar气为溅射气源，在基材表面沉积Ti过渡层；工艺参数如下：金属Ti靶的溅射电流为2~5A，Ar气的通入流量为20~40sccm，沉积时间为0.2~0.3h； 3利用Ti靶和MoS2CeO2复合靶，在Ti过渡层的基础上，沉积MoS2-Ti-CeO2表面层；工艺参数如下：金属Ti靶的溅射电流为0.4～0.8A，MoS2CeO2复合靶的溅射电流为1~1.5A，Ar气体的通入流量为20~40sccm，沉积时间为2.5~3.5h。
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