福建泓光半导体材料有限公司李禾禾获国家专利权
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龙图腾网获悉福建泓光半导体材料有限公司申请的专利抗反射组合物和抗反射膜及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119758666B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411990152.0，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权抗反射组合物和抗反射膜及其应用是由李禾禾;毛鸿超;王静;曾成财;郑瑞森;林伟城;宋里千;安辉;赵永红;肖楠设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本抗反射组合物和抗反射膜及其应用在说明书摘要公布了：本发明属于半导体加工领域，提供一种抗反射组合物和抗反射膜及其应用。本发明的抗反射组合物包含聚合物、产酸剂、交联剂、溶剂和可选的表面活性剂，其中，所述聚合物是由结构如式1所示的化合物A与化合物B通过缩聚反应形成，L为碳原子数为1～8的亚烷基等。所述抗反射组合物制备的抗反射膜具有耐溶剂性，可防止与光刻胶层互混，并且具有高的折射率、低消光系数以及优异的刻蚀速率。
本发明授权抗反射组合物和抗反射膜及其应用在权利要求书中公布了：1.一种抗反射组合物，其特征在于，包含聚合物、产酸剂、交联剂、溶剂和可选的表面活性剂，其中，所述聚合物是由化合物A和化合物B通过缩聚反应形成的缩聚物，所述化合物A为结构如式1所示的三嗪类化合物； 式1 式1中，L选自碳原子数为1~8的亚烷基或碳原子数为6~12的亚芳基； 所述化合物B选自4,4'-磺酰基二苯酚二缩水甘油醚、4,4'-双环氧丙氧基二苯二硫醚和1,1'-二环氧乙烷乙基硫醚中的至少一种。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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