核工业西南物理研究院柴宗俭获国家专利权
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龙图腾网获悉核工业西南物理研究院申请的专利低气压射流等离子体增强化学气相沉淀设备及其生产方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119800334B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510035802.4，技术领域涉及：C23C16/50；该发明授权低气压射流等离子体增强化学气相沉淀设备及其生产方法是由柴宗俭;郑国尧;金羽中;雷光玖;王昊;王建豹;封范;王子杰;练友运;涂成名;赵栋设计研发完成，并于2025-01-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本低气压射流等离子体增强化学气相沉淀设备及其生产方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种低气压射流等离子体增强化学气相沉淀设备及其生产方法，涉及化学气相沉积领域，包括：依次连接的等离子体发生器、裂解腔体、生长腔体和回收装置，所述等离子体发生器、裂解腔体、生长腔体和回收装置内部形成依次连通的通道；所述生长腔体用于向内部输送金属颗粒；所述生长腔体的出口通过输送管道和回收装置连接；所述金属颗粒能在重力作用下通过所述生长腔体内腔和所述输送管道内部之间的通道，进入所述回收装置内。采用本方案，金属颗粒粉末能直接穿过等离子体完成金属颗粒表面的固态膜原位生产反应，使得原位反应时间达到毫秒量级，相比于传统的PECVD设备大大缩短了反应时间从而提高了生产实验效率。
本发明授权低气压射流等离子体增强化学气相沉淀设备及其生产方法在权利要求书中公布了：1.低气压射流等离子体增强化学气相沉淀设备，其特征在于，包括： 依次连接的等离子体发生器1、裂解腔体2、生长腔体3和回收装置6，所述等离子体发生器1、裂解腔体2、生长腔体3和回收装置6内部形成依次连通的通道； 所述等离子体发生器1用于产生等离子体，等离子体通过内置通道输送至所述裂解腔体2内； 所述裂解腔体2用于输入反应气体，裂解通入通道内的反应气体并产生化学活性基团；同时将含有活性基团的等离子体通过通道输送至所述生长腔体3； 所述生长腔体3用于输送金属颗粒并与含有活性基团的等离子体反应； 所述生长腔体3的出口通过输送管道5和回收装置6连接；所述金属颗粒能在重力作用下通过所述生长腔体3内腔和所述输送管道5内部之间的通道，进入所述回收装置6内。
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