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龙图腾网获悉浙江大学杭州国际科创中心申请的专利一种用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119828423B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510228382.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估方法是由周国栋;何基斌;陈甫讯;曹书哲;高大为设计研发完成，并于2025-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估方法，方法包括以下步骤：S1、获取标准化后的数据；S2、采用RANSAC回归算法，得到稳健回归残差分析置信度；S3、基于隔离树异常分数得到隔离树置信度；S4、采用局部离群因子法得到局部离群因子置信度；S5、综合隔离树置信度和局部离群因子置信度得到无监督置信度；S6、得到高斯置信度；S7、综合稳健回归残差分析置信度、无监督置信度和高斯置信度得到综合置信度，得到用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估结果。与现有技术相比，本发明具有提高光刻工艺窗口分析的输入数据质量等优点。

本发明授权一种用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估方法在权利要求书中公布了：1.一种用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估方法，其特征在于，方法包括以下步骤： S1、获取原始FEM数据，对原始FEM数据进行预处理，得到标准化后的数据，所述标准化后的数据包括曝光能量、焦距和关键尺寸； S2、采用RANSAC回归算法，将曝光能量和焦距作为输入特征，关键尺寸预测值作为输出目标，拟合非线性关系模型，对标准化后的数据的每个数据点计算标准化残差，基于残差得到稳健回归残差分析置信度； S3、曝光能量、焦距和关键尺寸组成标准化后的三维矩阵，然后进行隔离树检测，随机划分特征空间，识别低密度区域的异常点，输出隔离树异常分数，基于隔离树异常分数得到隔离树置信度； S4、采用局部离群因子法，对三维矩阵计算局部密度差异，识别稀疏区域的异常点，输出局部离群因子异常分数，基于局部离群因子异常分数得到局部离群因子置信度； S5、综合隔离树置信度和局部离群因子置信度得到无监督置信度； S6、采用高斯回归算法，使用径向基函数，将曝光能量和焦距为输入特征，关键尺寸预测值作为输出目标，训练高斯过程回归模型，得到预测方差，基于预测方差得到高斯置信度； S7、综合稳健回归残差分析置信度、无监督置信度和高斯置信度得到综合置信度，基于综合置信度得到用于光刻工艺窗口分析的输入数据质量评估结果。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人浙江大学杭州国际科创中心，其通讯地址为：310000 浙江省杭州市萧山区经济技术开发区建设三路733号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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