西安交通大学白宇获国家专利权
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龙图腾网获悉西安交通大学申请的专利一种用于发动机进排气门的低应力抗结焦交替层叠薄膜及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119900026B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510050384.6，技术领域涉及：C23C28/04；该发明授权一种用于发动机进排气门的低应力抗结焦交替层叠薄膜及制备方法是由白宇;朱嘉音;马大衍;王玉;李燕;鲍宇设计研发完成，并于2025-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于发动机进排气门的低应力抗结焦交替层叠薄膜及制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于发动机进排气门的低应力抗结焦交替层叠薄膜及制备方法，包括从下到上依次设置在基底上的CrN薄膜、CrAlN薄膜、TiO2薄膜、CrN薄膜、CrAlN薄膜与TiO2薄膜。该结构通过CrN、CrAlN和TiO2层的多次交替沉积，有效平衡了薄膜内部的拉应力和压应力，显著降低了使用过程中的应力集中与热残余应力。CrN层作为底层和过渡层，增强薄膜与基底及层间的附着力；CrAlN层提供高硬度和耐高温性能；TiO2层则赋予薄膜优异的抗结焦性能。通过合理的结构设计和应力分布控制，该交替层叠薄膜在高温、有氧环境下展现出卓越的抗结焦和抗氧化性能，显著延长了进排气门的使用寿命。
本发明授权一种用于发动机进排气门的低应力抗结焦交替层叠薄膜及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种用于发动机进排气门的低应力抗结焦交替层叠薄膜，其特征在于，包括从下到上依次设置在基底上的CrN薄膜、CrAlN薄膜、TiO2薄膜、CrN薄膜、CrAlN薄膜与TiO2薄膜； CrN过渡层和CrAlN硬质层采用多弧离子镀工艺制备； TiO2薄膜采用原子层沉积制备； CrN薄膜的厚度均为0.2~0.5μm； CrAlN薄膜的厚度均为2~4μm； TiO2薄膜的厚度均为50~150nm； 所述低应力抗结焦交替层叠薄膜的总厚度为5~9μm。
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