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龙图腾网获悉广州华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利显示面板及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119997782B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510229116.0，技术领域涉及：H10K71/20；该发明授权显示面板及其制备方法是由赵斌;赵军;闫晓林;李珊;唐甲;王帅毅设计研发完成，并于2025-02-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示面板及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请实施例公开了一种显示面板及其制备方法，本申请实施例的显示面板及其制备方法采用一道光罩形成图案化的第一像素定义层和第二像素定义层，节省了一道光罩制程，且第一像素定义层为无机层，可节省一道热制程，降低薄膜晶体管负偏的风险。其次，第二像素定义层在第二方向上增设第一挡墙，使得在第二方向上被划分为多个墨水打印区，当对发光层进行烘烤时，以阻断溶质随溶剂的流动路径，在整面面板中，降低了中间区域的溶质向边缘区域大量转移的风险，以改善发光层的膜厚均匀性。

本发明授权显示面板及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 在基板上依次形成薄膜晶体管结构层、第一电极、第一像素定义层和第二像素定义层，所述第一像素定义层为无机层，所述第二像素定义层为有机光阻层； 图案化所述第二像素定义层，所述第二像素定义层包括第一光阻条、第二光阻条和第三光阻条，所述第一光阻条和第二光阻条沿着第一方向延伸且在第二方向上间隔设置，所述第三光阻条沿着所述第二方向延伸设置，所述第一方向与所述第二方向相交，所述第一光阻条和所述第二光阻条分别与所述第三光阻条交叉连接形成多个开孔，所述第一光阻条的厚度小于所述第二光阻条的厚度，所述第二光阻条的厚度小于所述第三光阻条的厚度，一所述开孔对应于一所述第一电极设置，俯视下的所述开孔的图案在所述第一电极的区域内； 以所述第二像素定义层为掩模，灰化所述第二像素定义层的同时刻蚀所述第一像素定义层；其中，去除所述第一光阻条，减薄所述第二光阻条形成第一挡墙，减薄所述第三光阻条形成第二挡墙，刻蚀所述第二像素定义层形成暴露所述第一电极的像素开口，所述第一挡墙的厚度小于所述第二挡墙的厚度； 在所述像素开口内形成发光层。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人广州华星光电半导体显示技术有限公司，其通讯地址为：510700 广东省广州市黄埔区(中新广州知识城)亿创街1号406房之417；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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