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龙图腾网获悉中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请的专利卷积梯度法计算大口径光学元件加工驻留时间方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120216827B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510700151.6，技术领域涉及：G06F17/10；该发明授权卷积梯度法计算大口径光学元件加工驻留时间方法是由李龙响;刘夕铭;李兴昶;程强;张峰;张学军设计研发完成，并于2025-05-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本卷积梯度法计算大口径光学元件加工驻留时间方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光学加工技术领域，尤其涉及一种卷积梯度法计算大口径光学元件加工驻留时间方法，包括根据待加工工件的面形和加工工艺，获得待加工工件的面形残差以及去除函数；根据待加工工件的面形采样尺寸设置抛光轨迹和抛光轨迹参数；根据面形残差、去除函数以及抛光轨迹，确定目标函数，以及基于目标函数的梯度设置迭代条件；利用迭代条件对目标函数进行优化，计算得到最终驻留时间。本发明将原有残差迭代条件设置为梯度迭代条件，在保证驻留时间的计算精度的同时，加快驻留时间的计算和优化过程，减少工程周期。

本发明授权卷积梯度法计算大口径光学元件加工驻留时间方法在权利要求书中公布了：1.一种卷积梯度法计算大口径光学元件加工驻留时间方法，其特征在于，包括： S1：根据待加工工件的面形和加工工艺，获得所述待加工工件的面形残差以及去除函数； S2：根据所述待加工工件的面形采样尺寸设置抛光轨迹和抛光轨迹参数； S3：根据步骤S1得到的面形残差和去除函数，以及步骤S2得到的抛光轨迹，确定目标函数，以及基于所述目标函数的梯度设置迭代条件；步骤S3中的目标函数为： 其中，表示所述目标函数，表示待求的驻留时间，表示所述去除函数，表示所述面形残差，表示卷积操作，卷积操作为同维度、同大小的卷积操作conv2_same·，卷积操作中去除函数R为卷积核； 在步骤S3中，所述迭代条件包括： 其中，表示第次迭代的驻留时间，表示第次迭代的阻尼因子，表示第次迭代的目标函数的梯度； 所述目标函数的梯度通过下式进行计算： 其中，gu表示设定的允许梯度最大值，表示去除函数R中各元素经上下左右颠倒后的矩阵，Δk表示第k次迭代的面形残差，通过下式得到： ； S4：利用步骤S3得到的迭代条件对所述目标函数进行优化，确定最终的驻留时间。

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