万华化学集团电子材料有限公司张焱坤获国家专利权
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龙图腾网获悉万华化学集团电子材料有限公司申请的专利一种抛光垫及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120533609B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511046808.8，技术领域涉及：B24B37/22；该发明授权一种抛光垫及其制备方法和应用是由张焱坤;王凯设计研发完成，并于2025-07-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抛光垫及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及化学机械抛光技术领域，具体提供了一种抛光垫及其制备方法和应用，包括抛光层以及位于所述抛光层一侧的缓冲层，所述缓冲层包括聚氨酯树脂和炔二醇类表面活性剂；本发明的缓冲层通过聚氨酯树脂与炔二醇类表面活性剂搭配使用，不仅能够迅速迁移并高效降低聚氨酯树脂的表面张力，提高粘合效果，而且能迅速润湿基材的毛细纤维，深入润湿鬃眼，从而增强润湿铺展效果和涂膜流平性，使抛光垫有较好的平整性，使用该抛光垫进行抛光可以得到优秀的研磨速率及高平坦性的器件，同时减少粘合层的使用可以防止在抛光的时候造成脱胶现象，抛光浆料不易进入内部，能够为抛光垫提供较高的使用时间，延长使用寿命。
本发明授权一种抛光垫及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种抛光垫，其特征在于，包括抛光层以及位于所述抛光层一侧的缓冲层，所述缓冲层包括聚氨酯树脂和炔二醇类表面活性剂，所述抛光层的压缩率与缓冲层的压缩率的比值为0.02~0.5； 所述抛光层的压缩率为第一厚度和第二厚度的差值与第一厚度的比值，第一厚度通过向抛光层的厚度方向施加8kPa的压力而测得，且第二厚度通过向抛光层的厚度方向施加30kPa的压力而测得；其中8kPa和30kPa的压力时间均为30s； 所述缓冲层的压缩率为第三厚度和第四厚度的差值与第三厚度的比值，第三厚度通过向缓冲层的厚度方向施加0.5kPa的压力而测得，且第四厚度通过向缓冲层的厚度方向施加50kPa的压力而测得；其中0.5kPa和50kPa的压力时间均为30s，所述缓冲层的压缩率测试时所述缓冲层设置于厚度为1.28mm的PET无纺布上。
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