北京奇峰蓝达光学科技发展有限公司刘景峰获国家专利权
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龙图腾网获悉北京奇峰蓝达光学科技发展有限公司申请的专利一种大尺寸紫外级氟化钙晶体的退火工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120537042B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511029432.X，技术领域涉及：C30B33/02；该发明授权一种大尺寸紫外级氟化钙晶体的退火工艺是由刘景峰;洪冬梅;孟春坡设计研发完成，并于2025-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种大尺寸紫外级氟化钙晶体的退火工艺在说明书摘要公布了：本申请涉及晶体退火技术领域，具体公开了一种大尺寸紫外级氟化钙晶体的退火工艺，包括多晶原料预处理和退火步骤；所述多晶原料预处理的具体步骤为：首先将氟化钙多晶原料完全填满坩埚，将坩埚置于退火炉中，抽真空，然后升温至T1270‑350℃，恒温24‑30h；接着向炉体中通入氩气和CF4的混合气体；继续升温至T2800‑1000℃，恒温15‑18h；而后关闭CF4气体、只通入氩气；继续升温至T31000℃‑1310℃，恒温24‑30h；最后进行降温。本申请提供的大尺寸紫外级氟化钙晶体的退火工艺能够降低退火后氟化钙晶体的边缘应力，大大提高氟化钙晶体在200‑400nm紫外波长下的透过率。
本发明授权一种大尺寸紫外级氟化钙晶体的退火工艺在权利要求书中公布了：1.一种大尺寸紫外级氟化钙晶体的退火工艺，其特征在于，包括步骤：多晶原料预处理、退火； 多晶原料预处理：首先将氟化钙多晶原料完全填满坩埚，将坩埚置于退火炉中，抽真空，然后升温至T1270-350℃，恒温24-30h；接着向炉体中通入氩气和CF4的混合气体；继续升温至T2800-1000℃，恒温15-18h；而后关闭CF4气体、只通入氩气；继续升温至T31000℃-1310℃，恒温24-30h；最后进行降温； 退火：将氟化钙晶体放入到含有预处理后的多晶原料的坩埚中，将坩埚置于退火炉中，抽真空；然后开启坩埚旋转，并以8-20℃h的速率升温至1000-1200℃，并恒温300-350h；接着按照以下程序进行降温：1200℃-1100℃温度区间内以4-12℃h的速度降温；1100-890℃温度区间内以13-17℃h的速度降温；890℃温度以下以20-25℃h的速度降温至室温，退火完成。
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