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龙图腾网获悉深圳市运宝莱光电科技有限公司申请的专利一种抗静电半反半透偏光片的制备工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120577912B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511075058.7，技术领域涉及：G02B5/30；该发明授权一种抗静电半反半透偏光片的制备工艺是由翁利平;陈运;万富斌设计研发完成，并于2025-08-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种抗静电半反半透偏光片的制备工艺在说明书摘要公布了：本发明属于偏光片技术领域，尤其涉及一种抗静电半反半透偏光片的制备工艺。包括以下步骤：酯交换合成PCThB型聚碳酸酯；光子微晶颗粒的制备；抗静电压敏胶和半透膜的制备及偏光片的复合。本发明通过熔融酯交换制得PCThB共聚物，加入2，5‑二羟甲基四氢呋喃能够减少PCThB共聚物团聚，降低熔点，提高微晶颗粒的粒径分布均匀性和晶态排列，从而提高其反射能力，加入双酚芴进行共聚引入对称结构，能够在后续更好地形成微晶颗粒，提高后续半透膜的反射效果、降低双折射效应，在提高偏光片的亮度和可视角度的同时能够减少微晶颗粒的用量，提高偏光片效果的同时保证产品质量，可以很好地满足其在各种场景下的应用。

本发明授权一种抗静电半反半透偏光片的制备工艺在权利要求书中公布了：1.一种抗静电半反半透偏光片的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤： S1酯交换合成PCThB型聚碳酸酯：将双酚芴、2，5-二羟甲基四氢呋喃和碳酸二甲酯以1：1-1.5：5-6.5的摩尔比搅拌均匀，加入钛酸四丁酯后通过熔融酯交换反应和沉淀纯化制得PCThB共聚物； S2光子微晶颗粒的制备：将PCThB共聚物、丙烯酸、PEG-4000和二氧化钛超声分散于四氢呋喃中，再加入PVA水溶液中进行高速分散，浓缩后得到预组装溶液，将载玻石英片进行表面亲水处理后组装成毛细力组装板，插入预组装溶液后风干，在60-65℃下干燥后升温至120-150℃进行高温处理，再以1500-2000次分钟的振动频率进行高速振动，得到微晶颗粒； S3抗静电压敏胶和半透膜的制备及偏光片的复合：丙烯酸丁酯、2-丙烯酸-2-甲氧基乙酯、甲基丙烯酸环乙酯、丙烯酸-2-羟乙酯、过氧化二苯甲酰和1-丁基-3-甲基咪唑二三氟甲基磺酰酰亚胺回流反应后加入二草酸硼酸锂搅拌均匀，得到抗静电压敏胶，将4-联苯甲醇丙烯酸酯、微晶颗粒、分散剂、流平剂、脱泡剂和光固化剂混合成半透胶体，然后涂覆在PET薄膜表面固化得到半透膜，将PVA膜、TAC膜、半透膜、离型膜和抗静电压敏胶进行复合，得到抗静电半反半透偏光片。

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