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龙图腾网获悉万华化学集团电子材料有限公司申请的专利抛光垫及晶圆抛光装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120588104B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511107136.7，技术领域涉及：B24B37/26；该发明授权抛光垫及晶圆抛光装置是由柴万里;王凯;谢毓设计研发完成，并于2025-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本抛光垫及晶圆抛光装置在说明书摘要公布了：本申请涉及化学机械抛光技术领域，公开了抛光垫及晶圆抛光装置，设置有终点检测窗，抛光层设置有多个第一凹槽以及第二凹槽，第一凹槽用于容纳抛光液，部分第一凹槽通过设置在抛光层上的多个第一连通部与第二凹槽连通，各第一连通部对应第一凹槽的一端均设置有导流凸起面，第一凹槽的槽壁对应导流凸起面设置有第一凸起面，导流凸起面与第一凸起面之间形成第一收窄通道，第二凹槽远离第一凹槽的一端均开设有排渣口；第二凹槽设置在终点检测窗侧边，用于拦截第一凹槽内的磨粒移动至终点检测窗上。本申请公开的抛光垫及晶圆抛光装置，以解决或改善杂质被输送至终点检测窗上，损坏半导体晶圆的表面的问题。

本发明授权抛光垫及晶圆抛光装置在权利要求书中公布了：1.一种抛光垫，设置有终点检测窗103，其特征在于，所述抛光垫包括： 抛光层1，设置有多个第一凹槽101以及第二凹槽102，所述第一凹槽101用于容纳抛光液，部分所述第一凹槽101通过设置在所述抛光层1上的多个第一连通部2与所述第二凹槽102连通，各所述第一连通部2对应所述第一凹槽101的一端均设置有导流凸起面2011，所述第一凹槽101的槽壁对应所述导流凸起面2011设置有第一凸起面1012，所述导流凸起面2011与所述第一凸起面1012之间形成第一收窄通道203，所述第二凹槽102远离所述第一凹槽101的一端均开设有排渣口1021； 所述第二凹槽102设置在所述终点检测窗103侧边，用于拦截所述第一凹槽101内的磨粒移动至所述终点检测窗103上； 所述第一连通部2包括： 连通槽202，所述连通槽202开设在所述抛光层1上，所述连通槽202的第一端与所述第一凹槽101连通，第二端与第二凹槽102连通； 导流板201，所述导流板201与所述连通槽202的第一端连接，且位于所述第一凹槽101内，所述导流板201对应所述第一凸起面1012设置有所述导流凸起面2011； 所述第一凹槽101上设置有第一弧形段1011，所述第一弧形段1011上设置有所述第一凸起面1012，所述第一弧形段1011与所述第一凸起面1012对应的一侧设置有第一凹陷面1013，沿第一方向，所述第一凹陷面1013的长度小于所述第一凸起面1012的长度；其中，所述第一方向为所述第一凹槽101的延伸方向。

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