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龙图腾网获悉上海芯源微企业发展有限公司申请的专利半导体工艺设备的控制方法、装置、设备、介质和程序获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120595761B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511106148.8，技术领域涉及：G05B19/418；该发明授权半导体工艺设备的控制方法、装置、设备、介质和程序是由王艳华;谢岩;杜浩浩设计研发完成，并于2025-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体工艺设备的控制方法、装置、设备、介质和程序在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体制造工艺控制领域，提供一种半导体工艺设备的控制方法、装置、设备、介质和程序，该方法包括获取目标机台的配置文件和诊断时间段，提取N个工艺变量；通过指定工艺变量相关性，将工艺变量聚合为M个控制组M＜N；识别各控制组中的基础工艺变量，提取数据库中对应的基础工艺变量，并确定诊断时间段内的子时间段；基于各子时间段提取非基础工艺变量的非基础工艺变量；分析非基础工艺变量是否满足配置文件中的边界条件，更新闭环控制模型；将模型输出的比例增益与偏置项反馈至控制模块，以优化其后续控制响应。该方法通过充分利用配置文件信息，实现闭环控制策略的灵活调整，提升半导体工艺设备的控制精度与稳定性。

本发明授权半导体工艺设备的控制方法、装置、设备、介质和程序在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺设备的控制方法，其特征在于，包括： 获取目标机台的配置文件和诊断时间段；所述配置文件包括所述目标机台的工艺变量的数据类型和闭环控制模型；所述闭环控制模型具有预设的边界条件； 基于所述配置文件和诊断时间段提取待分析的N个工艺变量，N为正整数；基于所述配置文件预先设定好的控制关系，指定各工艺变量之间的相关性；将单个闭环控制回路中相关的工艺变量进行聚合，生成M个控制组，M为小于N的正整数； 基于所述数据类型识别各个控制组中的基础工艺变量的数据类型，提取数据库中的所述基础工艺变量，基于所述基础工艺变量发生变化的时间段确定所述诊断时间段中待分析的子时间段；所述基础工艺变量为所述目标机台闭环控制回路的目标值或设定值； 基于各所述子时间段，提取所述数据库中的非基础工艺变量；分析所述非基础工艺变量是否满足所述边界条件，获得判定结果；非基础工艺变量中包含所述闭环控制模型的实际值和输出值，统计每个子时间段中各非基础变量满足边界条件时实际值和输出值的平均值，再根据所述平均值进行回归分析，更新所述闭环控制模型； 将更新后的所述闭环控制模型输出的比例增益与偏置项反馈到控制模块，以使控制模块在下次获取输入值时依据所述比例增益与偏置项计算输出值；所述输入值为所述基础工艺变量，所述输出值为所述目标机台的控制参数。

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