吴江翔丰丝绸整理有限公司郭伟翔获国家专利权
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龙图腾网获悉吴江翔丰丝绸整理有限公司申请的专利一种提花面料获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223420250U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422719802.X，技术领域涉及：B32B27/12；该实用新型一种提花面料是由郭伟翔;杨扬;郭良设计研发完成，并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种提花面料在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种提花面料，涉及纺织品领域，其技术方案要点是：外层的两侧分别设有若干凹槽一和若干凹槽二，内层的两侧分别设有若干凸条和若干通槽，凸条和凹槽二分别位于内层和外层相互靠近的一侧，若干提花图案沿外层的宽度方向阵列设置在若干凹槽一的底面，凹槽一的深度大于提花图案的厚度，若干相邻凸条与内层之间形成若干缓冲槽，若干缓冲槽与若干凹槽二之间的间隙形成缓冲空间。本实用新型通过涤纶纤维形成的提花图案和凸条不易磨损断裂，通过将提花图案设置在凹槽一内后使得外层能先与外物接触摩擦，进一步降低了提花图案的磨损程度，若干通槽、若干凹陷和缓冲空间能为面料受力摩擦时提供缓冲，从而降低面料整体的磨损程度。
本实用新型一种提花面料在权利要求书中公布了：1.一种提花面料，包括相互固定连接的内层1和外层2，所述外层2远离内层1的一侧阵列设置有若干提花图案3，其特征在于：所述外层2的两侧分别设有若干凹槽一4和若干凹槽二5，所述内层1的两侧分别设有若干凸条6和若干通槽7，所述凸条6和凹槽二5分别位于内层1和外层2相互靠近的一侧，若干所述提花图案3沿外层2的宽度方向阵列设置在若干凹槽一4的底面，所述凹槽一4的深度大于提花图案3的厚度，若干相邻所述凸条6与内层1之间形成若干缓冲槽8，若干所述缓冲槽8与若干凹槽二5之间的间隙形成缓冲空间9。
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