京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司霍堡垒获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利掩膜组件、显示面板以及显示装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223422754U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422944026.3,技术领域涉及:C23C14/04;该实用新型掩膜组件、显示面板以及显示装置是由霍堡垒;唐国强;王杨;冯彬峰;艾思飞;马丹阳设计研发完成,并于2024-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩膜组件、显示面板以及显示装置在说明书摘要公布了:提供一种掩膜组件、显示面板以及显示装置,掩膜组件包括掩膜框以及多张掩膜片,掩膜框包括至少一个掩膜开口,以及围绕掩膜开口的边框部;多张掩膜片搭接在掩膜框上;各掩膜片包括多个蒸镀区域,以及围绕多个蒸镀区域的分隔部,掩膜片的多个蒸镀区域与掩膜开口交叠,掩膜开口沿第一方向延伸,掩膜开口在第一方向上的尺寸大于在第二方向上的尺寸,且第一方向与第二方向相交,掩膜片沿第一方向延伸,各蒸镀区域在第一方向上的尺寸大于蒸镀区域在第二方向上的尺寸,该掩膜组件可以有效提高掩膜框的利用率,以具有较高的排版效率,从而可以使得产能大幅提升。
本实用新型掩膜组件、显示面板以及显示装置在权利要求书中公布了:1.一种掩膜组件,其特征在于,包括: 掩膜框,包括至少一个掩膜开口以及围绕所述掩膜开口的边框部;以及 多张掩膜片,搭接在所述掩膜框上; 其中,各所述掩膜片包括多个蒸镀区域,以及围绕所述多个蒸镀区域的分隔部,所述掩膜片的所述多个蒸镀区域与所述掩膜开口交叠, 所述掩膜开口沿第一方向延伸,所述掩膜开口在所述第一方向上的尺寸大于在第二方向上的尺寸,且所述第一方向与所述第二方向相交, 所述掩膜片沿所述第一方向延伸,各所述蒸镀区域在所述第一方向上的尺寸大于所述蒸镀区域在所述第二方向上的尺寸。
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