日月光半导体制造股份有限公司张毓仁获国家专利权
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龙图腾网获悉日月光半导体制造股份有限公司申请的专利电子元件失效分析的系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223426559U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-10发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422587654.0，技术领域涉及：G01N23/18；该实用新型电子元件失效分析的系统是由张毓仁;刘政鑫;林益生;王陈肇设计研发完成，并于2024-10-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本电子元件失效分析的系统在说明书摘要公布了：本申请提出了一种电子元件失效分析的系统，包括：定位标记，设置在所述电子元件的表面；X射线分析系统，用于通过分析所述电子元件产生出第一影像，所述第一影像包括所述定位标记所形成的第一标记；离子束显微镜分析系统，用于通过分析所述电子元件产生出第二影像，所述第二影像包括所述定位标记所形成的第二标记；以及定位系统，用于将所述第一标记与所述第二标记重合。本申请可以实现X射线分析系统和离子束显微镜分析系统之间坐标的准确定位，所取得的技术效果但不限于：①可以提高失效分析的定位精准度，降低分析位置的错误率；②可以提高失效分析之效率，缩短FIB进行分析之前的准备工作。
本实用新型电子元件失效分析的系统在权利要求书中公布了：1.一种电子元件失效分析的系统，适用于分析电子元件电性失效的原因，包括： 定位标记，设置在所述电子元件的表面； X射线分析系统，用于通过分析所述电子元件产生出第一影像，所述第一影像包括所述定位标记所形成的第一标记； 离子束显微镜分析系统，用于通过分析所述电子元件产生出第二影像，所述第二影像包括所述定位标记所形成的第二标记；以及 定位系统，用于将所述第一标记与所述第二标记重合。
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