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株式会社国际电气森真一朗获国家专利权

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龙图腾网获悉株式会社国际电气申请的专利半导体器件的制造方法、基板处理装置及记录介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115244662B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080098017.9,技术领域涉及:H01L21/31;该发明授权半导体器件的制造方法、基板处理装置及记录介质是由森真一朗设计研发完成,并于2020-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。

半导体器件的制造方法、基板处理装置及记录介质在说明书摘要公布了:根据本发明的一个方案,提供一种技术,具有在气体模型画面上设定阀的开闭状态来创建配方的工序、和通过执行所创建出的配方来处理基板的工序,创建配方的工序包括:a工序,在气体模型画面上任意的阀的开闭状态发生了变化的情况下,选择该气体模型画面上的气体配管;和b工序,确认与所选择出的气体配管连接的阀的开闭状态。

本发明授权半导体器件的制造方法、基板处理装置及记录介质在权利要求书中公布了:1.一种半导体器件的制造方法,其特征在于,具有在气体模型画面上设定阀的开闭状态来创建配方的工序和通过执行所创建出的配方来处理基板的工序, 创建所述配方的工序包括: a工序,在所述气体模型画面上任意的阀的开闭状态发生了变化的情况下,选择该气体模型画面上的气体配管;和 b工序,确认与所选择出的所述气体配管连接的阀的开闭状态, 包含所述气体模型画面的操作画面构成为能够设定与从由温度、压力、搬送系统构成的组中选择的至少一个有关联的参数,所述操作画面具有用于录入所设定的所述参数的录入部,所述录入部构成为在所述气体模型画面中从气体源到目的气体供给目标之间的阀全部为开状态的情况下能够按下,所述录入部构成为在所述气体模型画面中从所述气体源到目的气体供给目标之间的阀不全部为开状态的情况下无法被按下,所述配方具有多个步骤,所述操作画面具有画面切换部,其构成为在基于所述录入部受理所述设定内容后能够按下,将画面从一个步骤向其他步骤切换。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人株式会社国际电气,其通讯地址为:日本东京都;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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