电子科技大学陈远富获国家专利权
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龙图腾网获悉电子科技大学申请的专利一种基于MIL-101-丙烯酸酯类单体复合物用于负性光刻胶的制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119414661B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411734752.0,技术领域涉及:G03F7/038;该发明授权一种基于MIL-101-丙烯酸酯类单体复合物用于负性光刻胶的制备方法是由陈远富;刘小菲;巩明浩;张万里设计研发完成,并于2024-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于MIL-101-丙烯酸酯类单体复合物用于负性光刻胶的制备方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种用于负性光刻胶的MIL‑101‑丙烯酸酯类单体复合物的制备方法,主要包括以下步骤:该复合物通过如下方法制备:在氮气环境中,将MIL‑101、聚甲基苯基硅氧烷、丙烯酸酯类单体如丙烯酸羟乙酯与二丙二醇甲醚醋酸酯共混后加热处理,成功制备出MIL‑101‑丙烯酸酯类单体复合物。本发明制备的MIL‑101‑丙烯酸酯类单体复合物作为负性光刻胶改性组分,提升了传统光刻胶树脂的分辨率和整体光刻性能。该方法为负性光刻胶的树脂改性组分的设计提供了新的思路。
本发明授权一种基于MIL-101-丙烯酸酯类单体复合物用于负性光刻胶的制备方法在权利要求书中公布了:1.一种基于MIL-101-丙烯酸酯类单体复合物用于负性光刻胶的制备方法,其特征在于包括以下步骤: S1、将九水合硝酸铬CrNO33·9H2O和对苯二甲酸C8H6O4以1:1的摩尔比溶解在去离子水中,并加入氢氟酸搅拌均匀,形成混合溶液;接着,将混合溶液转移到内衬有聚四氟乙烯的不锈钢反应釜中,在220℃下进行水热反应,持续9小时;反应完成后,让反应釜自然冷却至室温,经过离心分离、洗涤和干燥后处理步骤,最终得到MIL-101; S2、将MIL-101、聚甲基苯基硅氧烷和丙烯酸酯类单体按照1:0.1:10混合,在氮气环境下,加入一种或多种溶剂,以500-1000rpm的速度搅拌混合,上述溶剂为二丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇苯醚醋酸酯或乙酸乙二醇乙醚; S3、然后在120℃的高温下密闭反应4小时,过滤和真空干燥后得到MIL-101-丙烯酸酯类单体复合物; MIL-101-丙烯酸酯类单体复合物改性光刻胶的制备: S4、在氮气保护中,将MIL-101-丙烯酸酯类单体复合物、环氧树脂、染料、光引发剂、流平剂和溶剂按照一定比例混合,以500rpm的速度搅拌1小时; S5、再进一步将混合的产物加入到剩余的溶剂二丙二醇甲醚醋酸酯中,以600rpm的速度搅拌混合30分钟,得到最终的光刻胶。
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