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龙图腾网获悉北京工业大学申请的专利一种小尺寸高密度微通道的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119797273B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510193126.3，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权一种小尺寸高密度微通道的制备方法是由周文斌;余梁;张至博;马华林设计研发完成，并于2025-02-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种小尺寸高密度微通道的制备方法在说明书摘要公布了：一种小尺寸高密度微通道的制备方法，涉及微通道强化相变传热技术领域。利用旋涂法、丝网印刷或喷涂法中的一种在金属基底表面涂覆感光抗蚀刻油墨，形成均匀、连续的厚度为0.2‑10μm的感光抗蚀刻保护涂层；利用紫外激光打印机在感光抗蚀刻保护涂层上雕刻出微通道掩膜图案；将具有微通道掩膜图案的金属基底浸泡在环保刻蚀液中进行刻蚀，刻蚀完成的目标金属基底浸泡在能够与感光抗蚀刻保护涂层发生反应的脱膜液中，使得感光抗蚀刻保护涂层条纹从目标金属基底表面剥离，裸露出微通道壁，得到小尺寸高密度微通道结构。本发明具有尺寸可精确调控、传热性能好、效率高、扩展性强，尤其适合强化沸腾传热等散热应用领域。

本发明授权一种小尺寸高密度微通道的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种小尺寸高密度微通道的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤A：利用清洗剂对目标金属基底进行超声清洗； 步骤B：利用旋涂法、丝网印刷或喷涂法中的一种在目标金属基底表面涂覆感光抗蚀刻油墨，对其进行固化，使目标金属基底表面形成均匀、连续的感光抗蚀刻保护涂层，所述感光抗蚀刻保护涂层的厚度为0.2-10μm； 步骤C：利用紫外激光打印机在上述感光抗蚀刻保护涂层上雕刻出微通道掩膜图案，紫外激光打印机对应的最小线宽为1-30μm，微通道掩膜图案中裸露出金属表面的区域对应后续形成的微通道区域，感光抗蚀刻保护涂层条纹所覆盖的区域对应后续形成的微通道壁；其中，微通道掩膜图案中单个微通道对应的裸露出金属表面的宽度为5-100μm，感光抗蚀刻保护涂层条纹的宽度为40-500μm； 步骤D：将上述具有微通道掩膜图案的目标金属基底浸泡在环保刻蚀液中进行刻蚀，环保刻蚀液通过与裸露的金属发生氧化还原反应，将金属氧化为金属阳离子从基底表面脱落，从而实现刻蚀效果，得到一定深度的截面为半椭圆形微通道结构；对于在铜基底上刻蚀小尺寸高密度的微通道，优选地，环保刻蚀液为含有过硫酸铵的氯化钠水溶液，其中过硫酸铵浓度为20-140mgmL，氯化钠与过硫酸铵的质量比为16:1-1.5:1，并在浸泡刻蚀过程中，定期对环保刻蚀液进行超声振荡或磁力搅拌，每刻蚀1-5min，超声振荡或磁力搅拌2-60s； 步骤E：将上述刻蚀完成的目标金属基底浸泡在能够与感光抗蚀刻保护涂层发生反应的脱膜液中，使得感光抗蚀刻保护涂层条纹从目标金属基底表面剥离，裸露出微通道壁，得到具有小尺寸高密度微通道结构的目标金属基底，得到的半椭圆形微通道的深度为10-140μm，开口宽度为25-300μm，通道密度为18-200cm-1。

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