深圳高性能医疗器械国家研究院有限公司;深圳市亚辉龙生物科技股份有限公司杨荣宜获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳高性能医疗器械国家研究院有限公司;深圳市亚辉龙生物科技股份有限公司申请的专利一种点阵式生物芯片的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119822322B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411950998.1，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权一种点阵式生物芯片的制备方法是由杨荣宜;李皓;肖育劲;刘长根;程邦宁;刘宇健;吕英楷;周龙;安礼相设计研发完成，并于2024-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种点阵式生物芯片的制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种点阵式生物芯片的制备方法。本发明提出通过纳米压印在芯片衬底上形成纳米孔点阵，通过水凝胶在点阵表面均匀形成功能化修饰层，再利用偏转的离子束对衬底进行刻蚀处理；刻蚀时离子束入射方向与载片台表面之间的夹角为θ，以对功能化修饰层进行选择性刻蚀；通过有夹角的刻蚀可保留纳米孔的底部和部分侧壁的功能化修饰层，而其它部分的功能化修饰层则被离子束刻蚀干净；IBE的离子源为氩气，化学性质稳定，对材料的化学成分无明显影响，避免了化学残留对功能化材料性能的损害；IBE不产生化学反应副产物，降低了表面残留颗粒和污染风险；IBE离子束能量可调，相对温和的刻蚀避免基底损伤，对表层材料的晶格、表面状态影响小。
本发明授权一种点阵式生物芯片的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种点阵式生物芯片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 在衬底表面制备得到阵列排布的纳米孔； 在所述衬底表面以及纳米孔内涂覆功能化修饰材料，以形成功能化修饰层； 将形成有功能化修饰层的衬底置于离子刻蚀机的载片台上，进行刻蚀处理，得到点阵式生物芯片； 其中，刻蚀时离子束入射方向与载片台表面之间的夹角为θ，以对功能化修饰层进行选择性刻蚀；0°θ90°。
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