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龙图腾网获悉中国科学院宁波材料技术与工程研究所申请的专利一种基于氧等离子体刻蚀调控柔性衬底表面织构的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119842110B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411977477.5，技术领域涉及：C08J7/12；该发明授权一种基于氧等离子体刻蚀调控柔性衬底表面织构的方法是由郭鹏;杨玉龙;汪爱英;马冠水;李昊;陈仁德;王丽设计研发完成，并于2024-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于氧等离子体刻蚀调控柔性衬底表面织构的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于氧等离子体刻蚀调控柔性衬底表面织构的方法。所述方法包括：提供柔性衬底；采用氧等离子体刻蚀技术对设置有金属掩膜版的柔性衬底进行刻蚀处理，所述金属掩膜版设置于柔性衬底表面的正上方，从而实现对柔性衬底表面织构的调控，制得具有微纳结构的柔性衬底。本发明通过表面织构的精准控制，可实现柔性衬底表面从疏水状态＞120°逐渐转为超亲水状态＜5°，制得的具有微纳结构的柔性衬底可实现应变超过150％的拉伸性能；同时本发明具有获得规则可控表面纳米织构的同时不影响柔性衬底本征性能的优点，且可调控柔性衬底表面润湿状态，制备方法简单，有望应用于柔性可穿戴电子器件领域。

本发明授权一种基于氧等离子体刻蚀调控柔性衬底表面织构的方法在权利要求书中公布了：1.一种基于氧等离子体刻蚀调控柔性衬底表面织构的方法，其特征在于，包括： 提供柔性衬底；其中，所述柔性衬底的材质为有机硅聚合物； 采用电感耦合PECVD复合沉积系统，将金属掩膜版设置于柔性衬底表面的正上方，通入氧气，利用射频电源在两个极板之间产生交变电场使得氧气在电场中被电离，产生氧等离子体，其中氧气流量为50~100sccm，射频电源施加频率为5~350kHz，脉宽为0.4~5.0μs，偏压为-250V~-500V；之后采用氧等离子体刻蚀技术对设置有金属掩膜版的柔性衬底进行刻蚀处理，所述金属掩膜版设置于柔性衬底表面的正上方，从而实现对柔性衬底表面织构的调控，制得具有微纳结构的柔性衬底； 其中，所述刻蚀处理的时间为1s~30min，所述金属掩膜版与柔性衬底表面的距离大于0mm且小于等于0.1mm；所述金属掩膜版为平面丝网状的矩形结构，金属掩膜版的丝粗为20μm~10000μm，金属掩膜版的孔径为20μm~2000μm。

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