哈尔滨工业大学;哈工大郑州研究院宋梓诚获国家专利权
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龙图腾网获悉哈尔滨工业大学;哈工大郑州研究院申请的专利一种红外特征模拟材料设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119993344B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510085226.4，技术领域涉及：G16C60/00；该发明授权一种红外特征模拟材料设计方法是由宋梓诚;贺乔柏;潘昭序;朱嘉琦;张锐聪;王天宇;张智博;殷轼雯;李泽钦设计研发完成，并于2025-01-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种红外特征模拟材料设计方法在说明书摘要公布了：本申请的一种红外特征模拟材料设计方法，将初始图像转化为灰度图，获取灰度图的每一个像素点值，并根据像素点最大值和像素点最小值得到填充规则函数，并根据填充规则函数对红外低发射率薄膜材料进行刻蚀或编织得到红外特征模拟材料，红外特征模拟材料用于制作防伪标识可实现防伪功能且不容易被复写，防伪成本低，祛除困难；能够有效解决现有防伪红外标识容易被复写的问题。
本发明授权一种红外特征模拟材料设计方法在权利要求书中公布了：1.一种红外特征模拟材料设计方法，其特征在于，包括： 步骤一：将初始图像转化为灰度图，读取灰度图中每个像素点的位置信息和每个像素点的像素值，根据每个像素点的位置信息和对应的像素点值得到像素点数据矩阵； 步骤二：选取像素点数据矩阵中像素点最大值Nmax和像素点最小值Nmin，设定像素点最大值Nmax对应的划线条数为0，像素点最小值Nmin对应的划线条数为m，m为整数； 将Nmax作为自变量，划线条数0作为与Nmax对应的因变量，Nmin作为自变量，划线条数m作为与Nmin对应的因变量，将两组自变量、因变量分别代入设定的初始规则函数，得到初始规则函数中常数的值，根据初始规则函数和初始规则函数中常数的值得到填充规则函数； 步骤三：根据得到的填充规则函数和像素点数据矩阵中每个像素点的值计算每个像素点对应的划线条数； 步骤四：根据每个像素点对应的划线条数和像素点数据矩阵中每个像素点的位置信息对低发射率薄膜材料进行划线刻蚀或编织得到红外特征模拟材料； 划线条数m＝ad，其中a为灰度图中每个像素点的边长，d为设定的划线精度。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人哈尔滨工业大学;哈工大郑州研究院，其通讯地址为：150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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