桂林航天工业学院覃科获国家专利权
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龙图腾网获悉桂林航天工业学院申请的专利基于灰度深度的表面微观形貌测量方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120374534B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510441830.6,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权基于灰度深度的表面微观形貌测量方法是由覃科;郑利华;吕勇设计研发完成,并于2025-04-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于灰度深度的表面微观形貌测量方法在说明书摘要公布了:本发明涉及微观形貌测量技术领域,尤其涉及一种基于灰度深度的表面微观形貌测量方法,包括:获取材料表面的反光率,确定拍摄点位的数量,对称设置拍摄点位;获取单一拍摄点位的图像信息并对所述图像信息进行预处理,以确定对称拍摄点位针对同一像素块的灰度梯度,确定像素块是否存在缺陷;以存在缺陷的像素块为中心,以预设像素距离为间距确定灰度对比度以确定缺陷范围;将所有拍摄点位确定的缺陷范围进行拟合以确定可靠度,根据可靠度确定缺陷的识别精度是否合格,根据不合格的识别精度调节识别参数;针对识别精度合格的缺陷根据灰度梯度确定材料表面的形貌。本发明提高了微观形貌检测的识别精度和工业检测效率。
本发明授权基于灰度深度的表面微观形貌测量方法在权利要求书中公布了:1.一种基于灰度深度的表面微观形貌测量方法,其特征在于,包括: 获取材料表面的反光率以基于所述反光率确定拍摄点位的数量,以材料表面的中心点所在的竖直线为中心轴对称设置拍摄点位; 获取单一所述拍摄点位的图像信息并对所述图像信息进行预处理,以确定对称拍摄点位针对同一像素块的灰度梯度,根据所述灰度梯度确定所述像素块是否存在缺陷; 以存在缺陷的像素块为中心,以预设像素距离为间距确定灰度对比度,根据所述灰度对比度确定缺陷范围; 将所有拍摄点位确定的缺陷范围进行拟合以确定可靠度,根据所述可靠度与预设可靠度的比较结果确定缺陷的识别精度是否合格,以及根据不合格的识别精度对所述预设反光率或所述预设可靠度进行调节; 基于识别精度合格的缺陷根据所述灰度梯度确定材料表面的形貌; 所述缺陷范围的确定过程包括: 以存在缺陷的像素块为中心,以预设像素距离为间距确定灰度对比度; 将所述灰度对比度与预设对比度进行比较; 基于所述灰度对比度大于或等于所述预设对比度的比较结果确定所述预设像素距离范围即为缺陷范围; 基于所述灰度对比度小于所述预设对比度的比较结果确定以预设幅度增加所述预设像素距离以得到第二像素距离; 以存在缺陷的像素块为中心,以所述第二像素距离确定第二灰度对比度; 将所述第二灰度对比度与预设对比度进行比较直至所述第二灰度对比度大于所述预设对比度,将所述第二像素距离范围确定为缺陷范围; 所述可靠度的确定过程包括: 以任一所述缺陷范围为基准,将其余各所述缺陷范围进行拟合确定拟合度; 将所述拟合度与预设拟合度进行比较; 基于所述拟合度大于或等于所述预设拟合度的比较结果确定所述缺陷范围重合; 将重合的缺陷范围的数量与全部缺陷范围的数量的比较确定为可靠度; 根据不合格的识别精度确定调节参数的过程包括: 将所述预设可靠度与所述可靠度作差,以获取差值百分比; 基于所述差值百分比大于预设百分比的比较结果确定增加所述预设反光率; 基于所述差值百分比小于或等于所述预设百分比的比较结果确定增加所述预设可靠度; 对所述预设反光率的调节过程包括: 确定所述缺陷范围的灰度熵,并将所述灰度熵与预设熵进行比较; 基于所述灰度熵大于所述预设熵的比较结果确定以第一调节系数增加所述预设反光率; 对所述预设可靠度进行调节的过程包括: 确定所述缺陷范围的逆差矩,将所述逆差矩与预设逆差矩进行比较; 基于所述逆差矩小于所述预设逆差矩的比较结果确定以第二调节系数增加所述预设可靠度。
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