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长鑫新桥存储技术有限公司王公元获国家专利权

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龙图腾网获悉长鑫新桥存储技术有限公司申请的专利套刻误差的量测方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120406058B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510854891.5,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权套刻误差的量测方法是由王公元;阚俊;贾斐;石德胜设计研发完成,并于2025-06-24向国家知识产权局提交的专利申请。

套刻误差的量测方法在说明书摘要公布了:本公开涉及半导体技术领域,提供一种套刻误差的量测方法,用于解决如何高效且精确地量测当前层和前一层之间的套刻误差的技术问题。该量测方法包括:获取半导体结构中的第一导电图案和第二导电图案的第一扫描图像;根据第一扫描图像,确定第二导电图案和第一导电图案之间的第一套刻误差;获取半导体结构中的第三导电图案和第一导电图案的第二扫描图像;根据第二扫描图像,确定第三导电图案和第一导电图案之间的第二套刻误差;根据第二套刻误差和第一套刻误差,确定第三导电图案和第二导电图案之间的第三套刻误差。如此,可以精确且高效地获得当前层图案和前一层图案间的套刻误差,减少由于套刻误差而引起的产品缺陷,有利于提高产品的质量和良率。

本发明授权套刻误差的量测方法在权利要求书中公布了:1.一种套刻误差的量测方法,其特征在于,包括: 获取半导体结构中的第一导电图案和第二导电图案的第一扫描图像,其中,所述第二导电图案位于所述第一导电图案之上; 根据所述第一扫描图像中所述第二导电图案和所述第一导电图案的成像,确定所述第二导电图案和所述第一导电图案之间的第一套刻误差; 获取所述半导体结构中的第三导电图案和所述第一导电图案的第二扫描图像,其中,所述第三导电图案位于所述第二导电图案之上; 根据所述第二扫描图像中所述第三导电图案和所述第一导电图案的成像,确定所述第三导电图案和所述第一导电图案之间的第二套刻误差; 根据所述第二套刻误差和所述第一套刻误差,确定所述第三导电图案和所述第二导电图案之间的第三套刻误差。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人长鑫新桥存储技术有限公司,其通讯地址为:230601 安徽省合肥市经济技术开发区新淮大道2788号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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