武汉凌久微电子有限公司欧宏日获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉凌久微电子有限公司申请的专利一种基于textureLod多层级采样的GPU纹理填充率测试方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120450941B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510966121.X，技术领域涉及：G06T1/60；该发明授权一种基于textureLod多层级采样的GPU纹理填充率测试方法是由欧宏日;沈晔;陈肯;付秋设计研发完成，并于2025-07-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于textureLod多层级采样的GPU纹理填充率测试方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种基于textureLod多层级采样的GPU纹理填充率测试方法，涉及GPU测试技术领域，包括以下步骤：S1、数据准备：配置渲染环境，生成顶点数据、纹理数据，并编译基于textureLod采样的着色器程序；S2、绘制与计算：对每个LOD层级的纹理执行渲染操作，记录渲染时间并计算对应纹理填充率；本发明利用OpenGL通用图形绘制接口编写程序，使用正方形纹理进行渲染，保证了测试的通用性；给出最大程度精简的资源数据以及去除了冗余的渲染操作，优化了渲染效率；通过textureLod多层级采样计算GPU的实际纹理填充率，有效解决了现有GPU纹理填充率测试准确率低的问题。
本发明授权一种基于textureLod多层级采样的GPU纹理填充率测试方法在权利要求书中公布了：1.一种基于textureLod多层级采样的GPU纹理填充率测试方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、数据准备：配置渲染环境，生成顶点数据、纹理数据，并编译基于textureLod采样的着色器程序； S2、绘制与计算：对每个LOD层级的纹理执行渲染操作，记录渲染时间并计算对应纹理填充率； S3、最大值确定：从各LOD层级的纹理填充率中获取最大值，作为GPU的纹理填充率实测值。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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