成都菲奥姆光学有限公司陈吉云获国家专利权
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龙图腾网获悉成都菲奥姆光学有限公司申请的专利基于数据处理的镀膜控制方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120625024B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511129292.3，技术领域涉及：C23C16/52；该发明授权基于数据处理的镀膜控制方法和系统是由陈吉云;刘志国;陈磊设计研发完成，并于2025-08-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于数据处理的镀膜控制方法和系统在说明书摘要公布了：本发明提供的一种基于数据处理的镀膜控制方法和系统，本发明涉及镀膜控制技术领域，该方法包括获取红外高反膜未消除应力的镀膜信息；基于红外高反膜未消除应力的镀膜信息确定多个第一应力消除镀膜方案，第一应力消除镀膜方案包括红外高反膜的掺杂原子浓度分布信息、应力补偿层厚度信息；基于多个第一应力消除镀膜方案分别对多个原始单晶硅基板进行镀膜，并获取每个镀膜后的单晶硅基板信息；基于每个镀膜后的单晶硅基板信息确定目标应力消除镀膜方案；基于目标应力消除镀膜方案对原始单晶硅基板进行红外高反膜镀膜，该方法能够高效精确地对红外高反膜应力分析与消除。
本发明授权基于数据处理的镀膜控制方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种基于数据处理的镀膜控制方法，其特征在于，包括： 获取红外高反膜未消除应力的镀膜信息； 基于所述红外高反膜未消除应力的镀膜信息确定多个第一应力消除镀膜方案，第一应力消除镀膜方案包括红外高反膜的掺杂原子浓度分布信息、应力补偿层厚度信息； 基于所述多个第一应力消除镀膜方案分别对多个原始单晶硅基板进行镀膜，并获取每个镀膜后的单晶硅基板信息，每个镀膜后的单晶硅基板信息包括单晶硅基板的三维点云数据、单晶硅基板在第一应力消除方案镀膜后的红外反射信息； 基于所述每个镀膜后的单晶硅基板信息确定目标应力消除镀膜方案； 基于所述目标应力消除镀膜方案对原始单晶硅基板进行红外高反膜镀膜。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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