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龙图腾网获悉佳能特机株式会社申请的专利磁吸附机构、蒸镀装置及电子器件的制造装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112185876B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010626576.4，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权磁吸附机构、蒸镀装置及电子器件的制造装置是由宫崎圭介;江泽光晴设计研发完成，并于2020-07-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本磁吸附机构、蒸镀装置及电子器件的制造装置在说明书摘要公布了：本发明提供能够简便且高精度地调整相对于掩模的吸附力分布的技术。提供一种磁吸附机构，所述磁吸附机构使用磁力使掩模吸附于成膜对象物的表面，所述掩模用于对成膜对象物形成所期望的成膜图案，其中，所述磁吸附机构具备：多个磁铁，所述多个磁铁相对于成膜对象物配置在与掩模相反的一侧；以及背轭，所述背轭安装有多个磁铁，并形成磁回路，所述磁回路利用磁铁的磁力而产生在朝向成膜对象物的方向上吸引掩模的吸附力，背轭在与磁铁的磁化方向上的端面接触的接触部具有磁阻调整部，所述磁阻调整部通过在与端面的一部分之间形成幅度可变的空间，或者通过使端面的一部分向接触部的内侧开放，从而能够对吸附力进行调整。

本发明授权磁吸附机构、蒸镀装置及电子器件的制造装置在权利要求书中公布了：1.一种磁吸附机构，所述磁吸附机构使用磁力使掩模吸附于成膜对象物的表面，所述掩模用于对所述成膜对象物形成所期望的成膜图案，其特征在于， 所述磁吸附机构具备： 多个磁铁，所述多个磁铁相对于所述成膜对象物配置在与所述掩模相反的一侧；以及 背轭，所述背轭安装有多个所述磁铁，并形成磁回路，所述磁回路利用所述磁铁的磁力而产生在朝向所述成膜对象物的方向上吸引所述掩模的吸附力， 所述背轭在与所述磁铁的磁化方向上的端面接触的接触部具有磁阻调整部，所述磁阻调整部通过在与所述端面的至少一部分之间形成幅度可变的空间，或者通过使所述端面的至少一部分向所述接触部的内侧开放，从而能够对所述吸附力进行调整， 所述磁阻调整部具有： 贯通孔，所述贯通孔将所述背轭中的所述接触部与所述接触部的内侧之间贯通；以及 填充构件，所述填充构件能够从所述内侧插入到所述贯通孔中，且由强磁性体构成， 通过调整所述填充构件相对于所述贯通孔的插入量，或者根据是否将所述填充构件插入到所述贯通孔中，对所述吸附力进行调整， 所述贯通孔为螺纹孔， 所述填充构件为能够与所述螺纹孔螺合的螺栓。

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