伟摩有限责任公司R.谢帕德获国家专利权
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龙图腾网获悉伟摩有限责任公司申请的专利靠近焦平面的窗口遮挡成像器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114270210B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080056006.4，技术领域涉及：G01S7/481；该发明授权靠近焦平面的窗口遮挡成像器是由R.谢帕德;P-Y.德罗兹;M.拉斯特;B.雷米希设计研发完成，并于2020-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本靠近焦平面的窗口遮挡成像器在说明书摘要公布了：本公开涉及光学系统及其操作方法。示例光学系统包括光学部件和被配置为发射光信号的一个或多个光源。光信号与光学部件相互作用以提供相互作用光信号。光学系统还包括检测器，其被配置为检测相互作用光信号的至少一部分作为检测到的光信号。光学系统附加地包括控制器，其被配置为执行操作，包括使一个或多个光源发射光信号和从检测器接收检测到的光信号。操作还包括基于检测到的光信号确定一个或多个缺陷与光学部件关联。
本发明授权靠近焦平面的窗口遮挡成像器在权利要求书中公布了：1.一种光学系统，包括： 光学部件； 一个或多个光源，被配置为发射光信号，其中，所述光信号与所述光学部件相互作用以提供相互作用光信号；和 检测器，被配置为检测所述相互作用光信号的至少一部分作为检测到的光信号；和 控制器，包括至少一个处理器和至少一个存储器，其中，所述至少一个处理器执行存储在所述至少一个存储器中的指令以执行操作，所述操作包括： 使所述一个或多个光源发射光信号；和 基于来自所述检测器的检测到的光信号确定一个或多个缺陷与所述光学部件关联，并且基于检测到的光信号的一个或多个光学质量，从多个缺陷类型中确定与所述光学部件关联的所述一个或多个缺陷中的至少一个缺陷的缺陷类型，其中，所述一个或多个光学质量包括检测到的光信号的强度、波长或者偏振。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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