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龙图腾网获悉富士通株式会社申请的专利优化装置、优化方法及存储优化程序的计算机可读介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114386211B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110785665.8，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权优化装置、优化方法及存储优化程序的计算机可读介质是由丸尾昭人;添田武志设计研发完成，并于2021-07-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本优化装置、优化方法及存储优化程序的计算机可读介质在说明书摘要公布了：本发明涉及优化装置、优化方法及存储优化程序的计算机可读介质。优化对象的形状的优化装置，该优化装置被配置成执行优化处理，所述优化处理包括：基于多个元素中的每个元素对对象的预定特性的贡献获得目标函数方程，所述多个元素中的每个元素是通过对布置在设计区域中的对象进行划分而获得的元素；以及通过基于所获得的目标函数方程针对对象的每个元素确定是否布置对象的每个元素来优化对象的形状。

本发明授权优化装置、优化方法及存储优化程序的计算机可读介质在权利要求书中公布了：1.一种优化磁屏蔽件的形状的优化装置，所述优化装置包括： 存储器；以及 耦接至所述存储器的处理器，所述处理器被配置成执行优化处理，所述优化处理包括： 基于多个元素中的每个元素对所述磁屏蔽件的预定特性的贡献获得目标函数方程，所述多个元素中的每个元素是通过对布置在设计区域中的所述磁屏蔽件进行划分而获得的元素，其中，所述预定特性是磁通量的屏蔽性能并且所述贡献是磁化矢量，并且其中，所述目标函数方程由下式1表示： 其中，在上述式1中， E为目标函数方程， α是正数， E1是表示在所述设计区域填充空气的情况下磁通量被屏蔽的区域中的磁通密度的平方的数值， NT是表示磁通量被屏蔽的区域被划分成的元素的数量的整数， Bk是表示磁通量被屏蔽的区域的第k个元素中的磁通密度的矢量， ΔSk是表示磁通量被屏蔽的区域的第k个元素的面积的数值， β是正数， E2是表示在所述设计区域填充磁性材料的情况下磁性材料的面积的数值， ND是表示所述设计区域被划分成的元素的数量的整数， ΔSi是表示所述设计区域的第i个元素的面积的数值，以及 xi是二进制变量，其在针对所述设计区域的第i个元素布置磁性材料的情况下变为1并且在没有布置磁性材料而使用空气的情况下变为0；以及 通过基于所获得的目标函数方程针对所述磁屏蔽件的每个元素确定是否布置所述磁屏蔽件的每个元素来优化所述磁屏蔽件的形状。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人富士通株式会社，其通讯地址为：日本神奈川县；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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